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深圳市京都玉崎電子有限公司
中級(jí)會(huì)員·2年
HMW-615N-4京都玉崎核心渠道 ORC/日本 紫外線照射設(shè)備
| 參考價(jià): | ￥ 5000 |
| 訂貨量: | 1件 |
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)- HMW-615N-4 產(chǎn)品型號(hào)
- ORC/日本 品牌
- 代理商 廠商性質(zhì)
- 深圳市 所在地
訪問(wèn)次數(shù)：87更新時(shí)間：2026-04-14 14:10:49
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,食品/農(nóng)產(chǎn)品,化工,生物產(chǎn)業(yè),綜合 |
|---|
這是一種通過(guò)用紫外線照射基板表面殘留有機(jī)物，去除有機(jī)物污染的裝置，用于形成細(xì)微圖案的工藝，如半導(dǎo)體制造工藝和液晶板制造工藝。 表面可以清潔和改造而不會(huì)損壞基底。
產(chǎn)品介紹
京都玉崎核心渠道 ORC/日本 紫外線照射設(shè)備
京都玉崎核心渠道 ORC/日本 紫外線照射設(shè)備
裝置搭載獨(dú)特的低壓紫外線燈，選用VUV-100/A-5.3U·7型號(hào)燈具，兼具極低的基材損傷性和高效的有機(jī)物分解能力，既能分解基板表面的殘留有機(jī)物，又能保護(hù)基板本身，避免因清潔過(guò)程造成的基材損耗，適配半導(dǎo)體、液晶板等精密基材的清潔需求。
為確保清潔均勻性，裝置采用基板振動(dòng)模式設(shè)計(jì)，通過(guò)振動(dòng)帶動(dòng)基板平穩(wěn)運(yùn)動(dòng)，使紫外線能夠均勻照射到基板的每一個(gè)區(qū)域，有效避免局部清潔不徹d底、照射不均等問(wèn)題，保障基板表面清潔度的一致性，為后續(xù)細(xì)微圖案形成工藝奠定良好基礎(chǔ)。同時(shí)，裝置在運(yùn)行過(guò)程中對(duì)基材的加熱幅度極小，可有效防止基材因高溫發(fā)生變形、性能改變等情況，進(jìn)一步保護(hù)基材完整性，適配各類熱敏性精密基板。
在輻照方式上，裝置配備兩種放射性照射方法，可靈活實(shí)現(xiàn)臭氧切斷與氮?dú)馊コ饶軡M足不同清潔場(chǎng)景的需求，又能有效控制清潔過(guò)程中產(chǎn)生的臭氧等有害氣體，保障作業(yè)環(huán)境的安全性與環(huán)保性。此外，裝置配備臭氧分解過(guò)濾器，可對(duì)清潔過(guò)程中產(chǎn)生的廢氣進(jìn)行有效處理，去除臭氧，避免廢氣排放對(duì)環(huán)境和操作人員造成影響，符合制造領(lǐng)域的環(huán)保與安全標(biāo)準(zhǔn)。
整體來(lái)看，該裝置憑借精準(zhǔn)的清潔能力、溫和的處理方式、靈活的操作模式，成為半導(dǎo)體、液晶板制造等精密工藝中不能缺少的表面清潔設(shè)備，能夠有效提升基板清潔效率與質(zhì)量，保障后續(xù)生產(chǎn)工藝的穩(wěn)定性與可靠性。
參數(shù)項(xiàng) | 詳細(xì)規(guī)格 |
|---|---|
模型 | HMW-615N-4 |
使用的燈具 | 低壓紫外線燈（VUV-100/A-5.3U·7 燈） |
照射距離 | 25毫米 |
輻射面積 | 400W × 400D（單位：毫米） |
照射時(shí)間 | 任意調(diào)節(jié)，最長(zhǎng)可達(dá)99分59秒 |
廢氣臭氧去除 | 配備臭氧分解過(guò)濾器，有效去除廢氣中的臭氧 |
設(shè)備尺寸（W×D×H） | 700毫米 × 800毫米 × 1447毫米（W=西，D=深度，H=高度） |
核心優(yōu)勢(shì) | 基材損傷極小、有機(jī)物分解能力強(qiáng)；基板振動(dòng)照射，紫外線均勻；基材加熱幅度小；兩種輻照方式，可切斷臭氧、去除氮?dú)?/div> |
適用場(chǎng)景 | 半導(dǎo)體制造工藝、液晶板制造工藝等需要形成細(xì)微圖案的精密場(chǎng)景，用于基板表面有機(jī)物污染去除及表面清潔、改性 |
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