適用于光學薄膜生產的高通用性電子槍ULVAC愛發科EGO-1G的操作應用
這款高度可靠的 EB 噴槍基于 ULVAC 多年的技術,專為光學領域而開發。
特點
由于電子束被電磁場偏轉,因此二次電子對沉積體的影響小。
即使是可升華的材料,也可以通過掃描 X 軸和 Y 軸上的光束點來順利蒸發,從而減少挖洞現象。
電子束是 270° 偏轉的,因此不會暴露在蒸發材料的蒸氣中,燈絲的使用長。
發射器組件易于安裝和拆卸,便于更換燈絲、絕緣體等。

1952年創業時的愛發科,是年輕的技術人員本著"用真空技術為產業和科學的發展做貢獻"的初衷。
自成立至今,一直秉承創業精神,除了在液晶平板顯示、半導體、電子元件等領域,以及包括汽車、食品、醫藥品等行業的一般工業設備領域,與客戶共享的真空技術,不斷創新,創造新的價值。
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