一、型號命名規則

• PF：內灌流結構（液體走中空纖維內部，外側真空 / 通氣）

• L：Large Flow 大流量 + Low Drop 低流阻改良結構

• 數字（001L / 004L / 015L / 030L）：流量規格

• ND3 后綴：第三代低阻優化版本，壓損進一步降低 20%

二、核心材質（同 PF-D，純水專用）

1. 中空纖維膜：PMP 聚烯烴 SS 致密表皮膜，透氣不透水，ppb 級除氧

2. 殼體：UPVC 耐腐工程塑料，高潔凈無金屬析出

3. 密封：食品級三元乙丙，僅適配純水、弱稀酸堿

4. 全部接液無氟樹脂，嚴禁有機溶劑、HF

三、核心結構優勢（PF-L 對比 PF-D 最大亮點）

1. 極低壓力損失

   內部流道加寬、纖維排布疏化，同等流量下壓損比 PF-D 降低 40%~50%，適配低壓離心泵、大循環純水系統，不會抬高水泵負荷。

2. 超大單支處理通量

   同體積下膜有效流通截面積放大，單支處理流量遠高于同尺寸 PF-D，大產線可減少并聯模組數量、節省機柜空間。

3. 抗堵塞、易反向沖洗

   內灌流結構，雜質隨液體順流，堵塞后反向清水沖洗即可恢復效率；大通道不易截留顆粒，適合含微量懸浮物循環純水。

4. 脫氣 / 溶氣一體兩用

   真空模式：脫除水中 O?、CO?、N?；通氣模式：通入 N?/CO?制備飽和工藝水，一套模組雙工況。

四、主流 PF-L 型號標準參數

升級 ND3 改良款（PF-001L-ND3）

• 壓損相比初代 PF-L 再降 20%，適合超低壓純水回路

• 膜抗污染性能提升 30%，適合長期 24h 連續運行

• 純水電阻率穩定控制波動≤±5%，半導體高純水循環優選

五、適配介質（僅限純水體系）

• 18.2MΩ?cm 超純水、二級反滲透產水

• 稀氨水、低濃度弱酸性清洗純水（pH4~10）

• 氮氣飽和水、二氧化碳調節 pH 純水

  禁止：HF、濃酸堿、IPA、PGMEA、各類有機溶劑、光刻藥液（腐蝕溶脹，只能選 PF-F）

六、典型應用場景

1. 半導體 Fab 全廠超純水主循環

   大流量純水總管在線脫氣，穩定純水電阻率，消除管道氣泡；

2. 面板工廠大型清洗純水循環

   多條清洗槽共用純水回路，大流量低壓損，降低供水泵能耗；

3. 光伏硅片清洗純水系統

   24h 不間斷大水量脫氣，避免氣泡造成硅片水印、不良；

4. 純水制氣系統（溶 CO?/N?）

   水處理 pH 調節、氮氣保護純水制備；

5. 大型實驗室、制藥純化水循環