該設備可瞬間生成1萬多個可獨立控制的并行激光焦點，每個焦點能量可實現169階以上的精細調節，配合研發團隊開發的智能全局優化算法，可將焦點陣列的光強均勻度提升至95%以上。
自“玉之泉"官微獲悉，日前，杭州玉之泉精密儀器有限公司（簡稱：玉之泉）聯合浙江大學ji端光學技術與儀器全國重點實驗室共同研發的“萬通道3D納米激光直寫光刻機"正式推出。
長久以來，雙光子激光直寫技術因具備高分辨率、低熱效應、無掩膜和真三維加工能力，一直是微納加工領域的前沿研究方向。然而，雙光子激光直寫技術雖然擁有ji高的加工精度，卻受困于“單束掃描"的物理極限。
面對這一行業痛點乃至國家gao端微納制造的戰略需求，浙大ji端光學全國重點實驗室科研團隊與杭州玉之泉聯合攻關，創新性地提出“萬通道快速獨立調控方案"。該設備可瞬間生成1萬多個可獨立控制的并行激光焦點，每個焦點能量可實現169階以上的精細調節，配合研發團隊開發的智能全局優化算法，可將焦點陣列的光強均勻度提升至95%以上，同時有效矯正光斑畸變，顯著提高了多通道間的一致性與加工精度。
得益于上述技術突破，該設備展現出zhuo越性能：超高打印速率可達每秒2億體素以上；在特定工藝下，最小特征尺寸可達亞50nm；2D面掃描速率達到40平方毫米/分鐘，是傳統技術的幾十倍，且最大加工幅面可完整覆蓋12英寸晶圓。
除了作為光子掩膜版、DOE掩膜版、MEMS掩膜版等gao端掩膜微納制造領域外，該設備還契合諸多偏定制、偏微納三維結構、偏良率與快速迭代的工藝需求，包括光子芯片與先進封裝： 支撐定制化、小批量的高精尖芯片研發；MEMS傳感器與微流控器件： 可實現復雜三維微結構的快速成型；精密光學元件： 滿足超透鏡、DOE器件等光學防偽與光通信領域的嚴苛要求。
如果說“萬通道"是微納光刻利器，那么超表面（Metasurface）就是它 具有優勢的應用場景之一。作為未來AR/VR、激光雷達及6G通信的核心元件，超表面需要在基底上制備數以萬計甚至上億個形狀各異的納米柱。隨著萬通道技術逐步產業化落地，有望大幅壓縮超表面加工周期，為其規?；慨a提供核心設備支撐。
玉之泉成立于2022年12月，是一家致力于解決國家“卡脖子"光刻技術的gao端光學精密儀器研發公司。公司總部位于中國杭州，創始股東由在光學研究領域深耕多年的資深科研工作者和企業管理經驗豐富的企業家組成。
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