SDE 系列（螺桿干式泵）定位

二、核心參數（全型號速覽）

1. 型號與抽速（50/60Hz）

• SDE90X：1,300 L/min

• SDE120TX：1,500 L/min

• SDE200：3,300 L/min

• SDE303X/TX：5,000 L/min

• SDE603X/TX：10,000 L/min

• SDE1203X/TX：20,000 L/min

• SDE20N12TX：30,000 L/min

• SDE30N20：50,000 L/min

• SDE60N20：100,000 L/min

2. 極限真空（到達壓力）

• 小型號（90X/120TX/200）：1.3 Pa

• 大型號（303X 及以上）：0.5 Pa

3. 電源與功耗

• 電源：三相 AC200–220V / 380–480V，50/60Hz

• 功耗（kW）：

• SDE90X：1.3

• SDE120TX：2.8

• SDE200：2.7

• SDE303X：1.5/3.0（標準 / 變頻）

• SDE603X：1.6/3.1

• SDE1203TX：2.0/3.2

4. 關鍵結構與材質

• 結構：立式螺桿轉子，無油干式壓縮，全程無潤滑油

• 材質：轉子 / 腔體不銹鋼 + 陶瓷涂層，耐 HCl、Cl?、HF 等腐蝕性氣體與粉塵

• 冷卻：風冷 + 高效溫控，適應高負載連續運行

三、核心特點（區別于普通干泵）

1. 無油潔凈：無油，零油蒸氣污染，滿足半導體 Class 1 潔凈要求

2. 強耐腐蝕：涂層 + 溫控，耐受刻蝕 / 沉積副產物、酸性氣體、粉塵

3. 大排量 + 高真空：抽速覆蓋1,300–100,000 L/min，極限真空低至0.5 Pa

4. 節能高效：變頻可選，比傳統干泵節能 20–30%

5. 長壽命低維護：結構堅固，24/7 連續運行，維護周期長

四、典型運用場景（按行業）

1. 半導體（最核心）

• 12 寸晶圓廠：刻蝕（Etch）、沉積（CVD/PVD）、清洗（Cleaning）、CMP 后干燥

• 優良制程：7nm/5nm/3nm，對潔凈度、穩定性、耐腐蝕要求高

• 封裝測試：高真空吸附、等離子清洗、鍵合 / 封裝真空腔

2. 顯示面板（LCD/OLED）

• 大尺寸基板：G8.5/G10.5，鍍膜、蒸鍍、刻蝕、脫泡

• OLED：有機層蒸鍍、腔體高真空維持，無油污染保障良品率

3. 新能源

• 光伏：硅片鍍膜、電池片真空層壓、組件脫氣

• 鋰電池：極片真空干燥（露點≤-40℃）、注液、電芯封裝

4. 化工 / 制藥

• 精細化工：反應釜真空、溶劑回收（VOCs）、蒸餾 / 精餾

• 制藥：凍干機（GMP）、無菌包裝、原料藥真空干燥

5. 科研 / 制造

• 加速器、同步輻射、真空鍍膜、光學器件、高校 / 研究所高真空系統

五、型號選型建議

• 小制程 / 小腔室：SDE90X/120TX（1,300–1,500 L/min）

• 中制程 / 標準腔室：SDE200/303X（3,300–5,000 L/min）

• 大制程 / 12 寸 / 大面板：SDE603X/1203TX（10,000–20,000 L/min）

• 超大排量 / 特殊工況：SDE20N12TX 及以上（30,000–100,000 L/min）