ULVAC 愛發科PRC系列羅茨干式真空泵

ULVAC 愛發科PRC系列羅茨干式真空泵

ULVAC（愛發科）HR/UR 系列是半導體級多級羅茨干式真空泵，為 CVD、刻蝕、灰化等嚴苛高溫 / 腐蝕 / 易沉積工藝設計，屬于愛發科***工藝干泵，對標大晃 BEH、愛德華 iXH，主打高溫均熱、強防腐、無油潔凈、大抽速 + 高真空。

• HR：標準高溫型（120–150℃），覆蓋主流 CVD / 刻蝕。

• UR：超高溫型（150–200℃），針對升華物 / 粉塵極重的制程（如 ALD、高沉積 CVD）。

 核心特點

1. 高溫均熱技術（核心壁壘）

• 泵體全程120–200℃可控恒溫，讓升華物質（如 NH4Cl、氟化物）保持氣態排出，不結垢、不堵泵、免頻繁清理。

• UR 比 HR 溫度更高，防沉積能力更強。

2. 多級羅茨 + 高壓縮比

• 4–5 級羅茨串聯，直排大氣無需前級泵，極限真空達0.005–5 Pa，抽速60–4500 m3/h。

3. **防腐 + 密封

• 轉子 / 腔體：高硬度防腐涂層，耐 HCl、HF、Cl?、氟化物，適配刻蝕 / 去膠強腐蝕工況。

• 屏蔽電機 + 氦氣密封：零泄漏、防爆、低維護。

4. 瞬停對策 + 節能

• 抗1000ms 瞬停，半導體產線**等級高。

• 可選 ECO-SHOCK：輕載（空氣 / N?）節能*高 70%。

三、核心型號與參數（2026 原裝，50/60Hz）

HR 系列（標準高溫，120–150℃）

UR 系列（超高溫，150–200℃，防沉積更強）

四、HR/UR vs 愛發科內部系列（MS/LR）

五、行業應用（半導體為主，覆蓋嚴苛制程）

1. 半導體（核心主力）

• CVD（沉積）：HR421/UR600/UR1200（如 PECVD、LPCVD、ALD），防硅烷 / 氨氣沉積物。

• 刻蝕（Etch）：UR600/UR1200（干法刻蝕、RIE、ICP），耐氟 / 氯系腐蝕 + 排粉塵。

• 灰化（Ashing）：HR180/HR421，排聚合物殘渣。

• 擴散 / 退火：HR90/HR180，高溫高真空、潔凈排氣。

2. 光伏 / FPD

• 光伏PECVD / 擴散：HR421/UR600，耐硅塵 + 高溫防沉積。

• OLED蒸鍍 / 刻蝕：UR600，無油潔凈、低污染。

3. 鋰電 / 化工（高要求場景）

• 鋰電**極片烘干 / 注液脫氣：HR180/HR421，耐電解液腐蝕 + 潔凈。

• 化工高腐蝕蒸餾 / 溶劑回收：HR90/HR180，耐酸堿 / 有機溶劑。

六、HR/UR vs 大晃 BEH 選型對照