進口SUNJE禪才 軟 X 射線半導體靜電消除
進口SUNJE禪才 軟 X 射線半導體靜電消除

• 電離原理：軟 X 射線（4.9kV / 11kV / 14.9kV）光電離，無電暈、無臭氧、無粉塵、無需 CDA。

• 離子平衡：±0V（長期穩定），不反向充電，保護光罩 / 超薄晶圓。

• **合規：輻射豁免（＜5kV 免監管），CE/RoHS，可用于真空 / N? 環境。

• 維護：無電極、免清潔；燈管壽命約 7,500–20,000 小時，到期報警提示更換。

• 光束角：150° 廣角，覆蓋面積大。
  

  SXN 系列（標準型，小體積）

  代表型號：SXN?10T / SXN?15U / SXN?10F

• 形態：小型照射頭（約 290g）+ 控制器（SXC?10T/102T/104T）。

• SXN?10T（經典款）

• 管電壓：4.9kV；功耗：≤23W。

• 安裝：1/4?20 螺紋，可固定 / 懸臂安裝。

• 應用：光刻腔、Stage 下方、AMHS 搬運、探針臺周邊。

• SXN?15U（高功率）

• 14.9kV，電離密度更高，除電更快。

• 適合：超薄晶圓、OLED 蒸鍍、高靜電風險工位。

• SXN?10F（柔性臂）

• 500mm 可彎曲臂，定點精準除電，設備內部死角。

參數速覽（對比）




系列	典型型號	管電壓	尺寸 / 長度	重量	核心用途
SXN	SXN?10T	4.9kV	60×60×120mm	290g	標準潔凈室、小型設備
SXH	SXH?05T	4.9kV	φ20×150mm	100g	微型空間、探針臺
SXB	SXB?05NR	4.9kV	300–2700mm（模塊化）	0.5kg / 節	大面積、腔體內、濕法







半導體推薦場景

• 超敏感制程：光刻（光罩）、超薄晶圓、真空環境 → SXN?15U / SXB?05NR。

• 狹小 / 微型空間：探針臺、切割 / 研磨、設備內部 → SXH?05T / SXN?10F。

• 大面積 / 寬幅：基板傳送、腔體內壁、AMHS → SXB 長棒（多節）。

• 濕法制程：清洗 / 去膠 → SXB?10W（防水）。