日崎 奧加諾 ORGANO 雙床式純水裝置
日崎 奧加諾 ORGANO 雙床式純水裝置

在鍋爐補給水或特定電子元件的清洗中，水中的二氧化硅（Silica）如果未被清除，會在高溫下結(jié)成堅硬的硅垢，或者在晶圓表面形成嚴重的絕緣缺陷。普通的混床設(shè)備在樹脂快飽和時容易發(fā)生硅酸穿透。MegaSirc MGS 通過分離陰陽樹脂并引入加溫再生工藝，為除硅高純水的制備提供了專業(yè)的工程級防線。

【雙塔同步再生與效率躍升】傳統(tǒng)的復床（雙床）純水設(shè)備在進行再生時，通常需要先清洗再生陽樹脂塔，完成后再清洗再生陰樹脂塔，整個過程耗時往往超過 2 到 3 個小時。MGS 系列通過精密的液路控制系統(tǒng)，實現(xiàn)了 K 塔（陽床）與 A 塔（陰床）的同步同時再生。這一突破性的改進，將設(shè)備因再生而無法產(chǎn)水的停機時間大幅壓縮至約 45 分鐘，使得系統(tǒng)整體的產(chǎn)水效率獲得了顯著躍升。

【逆流環(huán)保與加熱除硅技術(shù)】為了提升化學藥劑的利用率，該設(shè)備采用了“逆流再生（Counter-current regeneration）"技術(shù)。再生藥劑與日常制水的水流方向相反，能夠使樹脂出水端始終保持高度的活性，從而穩(wěn)定產(chǎn)出電導率在 1 μS/cm 以下的高純水，同時產(chǎn)生的酸堿廢水也更少。針對頑固的微量硅元素，MGS 系列引入了加溫再生模塊。在對陰樹脂進行再生時，系統(tǒng)會將 NaOH（燒堿）溶液進行加熱后注入。熱堿液能夠?qū)⑽皆跇渲⒖咨钐幍墓杷岣x子深度洗脫，從而賦予了該設(shè)備能夠穩(wěn)定保障產(chǎn)水中二氧化硅（Silica）含量低于 0.1ppm 的高階水質(zhì)承諾。

【主要技術(shù)規(guī)格參數(shù)表】

• 設(shè)備定位：工業(yè)級 高純度對應(yīng)兩床式（陽床+陰床）純水制備裝置

• 出水水質(zhì)指標：電導率 1 μS/cm 以下；二氧化硅（Silica）保證在 0.1ppm 以下

• 樹脂再生工藝：采用逆流再生方式（Counter-current），提高藥劑效率并減少廢水量

• 再生耗時控制：陽塔與陰塔同步執(zhí)行再生，全流程耗時縮短至約 45 分鐘

• 深度除硅技術(shù)：采用 NaOH 加溫再生工藝，確保陰離子樹脂對硅酸的深度洗脫

• 系統(tǒng)硬件構(gòu)成：包含獨立運作的陽離子交換樹脂塔(K塔)與陰離子交換樹脂塔(A塔)

• 應(yīng)用場景優(yōu)勢：特別適用于對水質(zhì)電導率及硅含量有雙重嚴格指標的中大型工業(yè)應(yīng)用