光的干涉在薄膜光學(xué)中應(yīng)用廣泛. 光學(xué)薄膜技術(shù)的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜. 光學(xué)鍍膜是光學(xué)器件上的單個(gè)或多個(gè)材料沉積薄層, 實(shí)現(xiàn)多樣功能, 典型應(yīng)用例如在鏡片鍍膜中, 為了消除光學(xué)零件表面的反射損失, 提高成像質(zhì)量, 涂鍍一層或多層透明介質(zhì)膜, 稱(chēng)為增透膜或減反射膜. 薄膜沉積在新型特殊性能材料的開(kāi)發(fā)和研究中起到重要作用.

光學(xué)鍍膜是如何工作的？
待鍍膜工件裝入鍍膜室, 其內(nèi)將執(zhí)行噴濺工藝流程. 通常是兩個(gè)離子源, 一個(gè)濺射沉積源, 一個(gè)預(yù)清潔和輔助沉積源. 離子源在真空環(huán)境中產(chǎn)生離子束, 離子束轟擊濺射目標(biāo), 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 從而將薄膜加鍍到工件上. 此處所需的典型真空壓力一般小于 1x10-4 hPa. 清潔無(wú)碳真空環(huán)境和高穩(wěn)定的離子束流是實(shí)現(xiàn)精確的高質(zhì)量的薄膜關(guān)鍵.

光學(xué)鍍膜中離子源作用
通過(guò)使用上海伯東美國(guó) KRi 離子源可實(shí)現(xiàn)基板清潔和加速鍍膜材料的濺射速度, 并且離子源在材料沉積過(guò)程中可幫助沉積并使沉積后的薄膜更為致密, 膜基附著力更好,  膜層不易脫落. 其中射頻離子源提供高能量, 低濃度的離子束, 離子源單次工藝時(shí)間更長(zhǎng), 適合多層膜的制備和離子濺鍍鍍膜工藝. 上海伯東是美國(guó) KRi 離子源中國(guó)總代理.

上海伯東 KRi 射頻離子源 RFICP 參數(shù):

光學(xué)鍍膜中真空系統(tǒng)
不論是蒸發(fā)鍍膜還是濺射鍍膜, 上海伯東提供滿(mǎn)足各種鍍膜工藝的德國(guó) Pfeiffer 真空泵, 比如分子泵, 旋片泵, 螺桿泵及整套泵站, 同時(shí)提供用于真空測(cè)量的真空規(guī)和用于鍍膜設(shè)備腔體密封性泄露檢測(cè)的氦質(zhì)譜檢漏儀, 以保證鍍膜工藝穩(wěn)定性.

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