本文介紹了株式會社 INTECS 開發的 UIH-1H 型超高亮度照明裝置。該設備利用丁達爾現象，專為精密光學檢測設計。其核心定位在于 “結像重視” （成像清晰度），區別于單純的高亮度照明設備。UIH-1H 的主要功能是專攻半導體拋光晶圓（Polish Wafer）的 Haze（霧度）檢測，通過獨特的光學系統在晶圓表面投影出3條檢查標記，使操作人員能直觀判斷表面微米級的霧狀缺陷。同時，該設備也適用于廣泛的 “半導體晶圓與掩膜玻璃專用” 場景，可用于檢查表面異物、傷痕及內部氣泡。文章詳細列出了其 15V 150W 的光源規格，并強調了其特的有的3分鐘強制冷卻關機流程，以確保設備在高潔凈度工業環境下的穩定性和 longevity。

與同系列的 UIH-1C 型號不同，UIH-1H 在設計上側重于成像清晰度（結像重視），而非單純的高亮度。

• 核心用途：該設備專為拋光晶圓（Polish Wafer）的 Haze（霧度/濁度）檢測而設計。

• 光學特性：UIH-1H 能夠在照射面上投影出 3 條特定的檢查標記。這些標記有助于操作人員清晰地觀察晶圓表面的霧狀缺陷（Haze）。

• 適用對象：主要針對半導體晶圓，同時也適用于掩膜玻璃（Mask Glass）、光學部件及鏡頭等精密部件的表面檢查。

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• 結束使用流程：檢測結束后，先將燈泡開關撥回 STANDING BY 狀態。必須冷卻 3 分鐘以上，待內部溫度下降后，再切斷電源。這是為了保護設備并確保下一次使用的穩定性。