富士HYSA-06半導(dǎo)體及gao端電子核心應(yīng)用場景
1. 超高壓狹縫涂布 / 高壓光刻膠供給(核心場景)
工藝:厚膜 PI 聚酰亞胺、高粘度光刻膠、高固含量 ARC 抗反射層高壓涂布;
工況:高壓擠出提升涂層均勻性,消除針孔、氣泡缺陷;
優(yōu)勢:980bar 高壓可滿足高固厚膠穩(wěn)定擠出,單臺大流量適配中試寬幅涂布設(shè)備。
2. 超臨界流體半導(dǎo)體材料合成(高壓微反應(yīng))
3. IC 載板 / 面板量產(chǎn)大容量藥液自動補(bǔ)給
4. 晶圓電鍍、凸點(diǎn)電鍍高壓藥劑輸送
5. CMP 拋光漿料高壓輸送與在線配比
6. 先進(jìn)封裝大流量環(huán)氧膠 / 底填膠集中供膠
四、其他行業(yè)典型應(yīng)用
鋰電高壓電解液中試、超高壓混合反應(yīng);
精細(xì)化工高壓加氫、連續(xù)流微通道合成;
精密光學(xué)鏡片高壓防指紋涂層量產(chǎn)噴涂;
醫(yī)藥高壓均質(zhì)、無菌中試連續(xù)乳化;
燃燒試驗機(jī)、材料老化測試臺高壓燃料供給。
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