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內容聲明：
您訪問的NIE-4000（A）全自動IBE離子束刻蝕產品信息，由那諾中國有限公司自行發布提供，產品價格為面議，如您想了解更多關于NIE-4000（A）全自動IBE離子束刻蝕型號、參數、用途等信息，歡迎咨詢。
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產品簡介
NIE-4000（A）全自動IBE離子束刻蝕產品參數
| 產地類別 | 進口 | 應用領域 | 醫療衛生,化工,生物產業,電子/電池,制藥/生物制藥 |
NIE-4000（A）全自動IBE離子束刻蝕詳細信息
IBE離子束刻蝕系統
NIE-4000（A）全自動IBE離子束刻蝕產品概述：如銅和金等金屬不含揮發性化合物，這些金屬的刻蝕無法在RIE系統中完成。然而通過加速的Ar離子進行物理刻蝕則是可能的。通常情況下，樣品表面采用厚膠作為掩模層，刻蝕期間富有能量的離子流會使得基片和光刻膠過熱。除非可以找到有效的方式消除熱量，否則光刻膠將變得非常難以去除。
NANO-MASTER技術已經證明了可以把基片溫度控制在50° C以內的同時，旋轉晶圓片以達到想要的均勻度。
NIE-4000（A）全自動IBE離子束刻蝕產品特點：
- 14.5”不銹鋼立體離子束腔體
- 16cm DC離子槍1200eV,650mA, 氣動不銹鋼遮板
- 離子束中和器
- 氬氣MFC
- 6”水冷樣品臺
- 晶片旋轉速度3、10RPM，真空步進電機
- 步進電機控制晶圓片傾斜
- 自動上下載晶圓片
- 典型刻蝕速率：銅200 ?/min, 硅：500 ?/min
- 6”范圍內，刻蝕均勻度+/-3%
- 極限真空5x10-7Torr，20分鐘內可達到10-6Torr級別（配套500 l/s渦輪分子泵）
- 配套1000 l/s渦輪分子泵，極限真空可達8x10-8Torr
- 磁控濺射Si3N4以保護被刻蝕金屬表面被氧化
- 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
- 菜單驅動，4級密碼訪問保護
- 完整的安全聯鎖
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