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內容聲明：
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產品簡介
NIM-4000（M）離子銑刻蝕系統產品參數
| 產地類別 | 進口 | 應用領域 | 醫療衛生,化工,生物產業,電子/電池,制藥/生物制藥 |
NIM-4000（M）離子銑刻蝕系統詳細信息
IBM離子銑
NIM-4000（M）離子銑刻蝕系統產品概述：利用離子束轟擊固體表面的濺射作用，剝離加工各種幾何圖形，通過大面積離子源產生的離子束，可對固體材料濺射刻蝕，對固體器件進行微細加工。該系統為全自動上下載片，計算機全自動控制的系統。
NANO-MASTER技術已經證明了可以把基片溫度控制在50° C以內的同時，旋轉晶圓片以達到想要的均勻度。
NIM-4000（M）離子銑刻蝕系統產品特點：
- 14.5”不銹鋼立體離子束腔體
- 16cm DC離子槍1200eV,650mA, 氣動不銹鋼遮板
- 離子束中和器
- 氬氣MFC
- 6”水冷樣品臺
- 晶片旋轉速度3、10RPM，真空步進電機
- 步進電機控制晶圓片傾斜
- 自動上下載晶圓片
- 典型刻蝕速率：銅200 ?/min, 硅：500 ?/min
- 6”范圍內，刻蝕均勻度+/-3%
- 極限真空5x10-7Torr，20分鐘內可達到10-6Torr級別（配套500 l/s渦輪分子泵）
- 配套1000 l/s渦輪分子泵，極限真空可達8x10-8Torr
- 磁控濺射Si3N4以保護被刻蝕金屬表面被氧化
- 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
- 菜單驅動，4級密碼訪問保護
- 完整的安全聯鎖
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