主要特點：

Triglav^TM—超高分辨率電子光學鏡筒

TriLens^TM三物鏡系統

EquiPower™技術進一步提高電子束的穩定性

的TriSETM技術具有三個SE探測器采集二次電子信號

的TriBE^TM技術具有三個BSE探測器選擇不同角度的信號進行采集。

擴展的低真空模式樣品室氣壓能達到500Pa，可用于不導電樣品的成像

電子束減速技術（BDT）在低至50eV下仍具有高分辨率成像能力

超高分辨率0.7nm@15keV  1.0nm@1keV

高束流極短的分析工作距離

新的肖特基場發射電子槍能使電子束流高達400nA，并能實現電子束能量的快速改變。所有的探測器的*分析工作距離均為5mm，短的工作距離同時也保證了分析時的高分辨率。

電子束實時追蹤技術^TM

對工作距離，放大倍數等所有光學參數進行實時地精確計算，對束班和束流大小進行連續的控制及實時優化。

技術特色：

Triglay^TM電子光學鏡筒

TriLens^TM透鏡系統，TriSE^TM+TriBE^TM探測器系統和EquiPower^TM管理系統。

TriLens^TM透鏡系統：（a）超大視場觀察的中間鏡（b）高分辨無漏磁分析物鏡（c）超高分辨率物鏡（60度浸沒式物鏡）

TriLens^TM成像模式：超高分辨率模式、分析模式、景深模式、大視野模式

TriLens^TM透鏡系統中的電子束無交叉技術保證了超低加速電壓下的分辨率，0.7nm（加速電壓15kV），1nm（著陸電壓1 kV），1.2nm（著陸電壓200V）。

TriSE^TM+TriBE^TM，共可獲得6中圖像，包含不同的信息，可根據實際應用需要靈活選擇。

EquiPower^TM管理系統：特殊的散熱系統能夠保證電子鏡筒具有*的穩定性，對做一些耗時長的應用（如SEM-FIB的三維重構）非常理想。