光學膜厚儀  光學膜層厚度測量控制儀

型號：LT/CDNY-03AM

北京光學膜層厚度測量控制儀

CDNY-03AM是專為光學鍍膜設計的新一代光學膜層厚度測量控制儀。本儀器由于采用窄帶頻率技術，因而對信號諧波和直流漂移具有的抑制能力。

北京光學膜層厚度測量控制儀主要性能指標及技術指標

主信號通道：
信號輸入方式：單端交流輸入
輸入量程：0.5mV-500mV
信號頻率范圍:1KHz±5%
本機頻相噪聲:≤4nV/Hz(折合到輸入端)
性誤差: ≤0.1%
零點時源： ≤0.2%/h
參考信號通道：

信號輸入方式：單端交流輸入
輸入幅度：20-700mV
頻率范圍:≥320^。
 

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