專業電子束曝光系統

電子束直寫系統  EBPG5150

自動化和高速度的電子束直寫技術

電子束直寫系統EBPG5150使用了155mm大小的樣品臺，采用跟電子束曝光機EBPG5200一樣的通用光刻平臺設計，對電子束直寫應用進行了優化。它可以載入不同大小的樣品,包括多片散片以及完整的硅片。 

Improved Specifications

• Ultra-fast, low-noise pattern generator 125 MHz
• Extreme beam current up to 350 nA
• Excellent direct write performance with overlay accuracy of ≤ 5nm

• 高束流密度，熱場發射電子槍可以在20、50和100kV之間切換
• 155mm的平臺
• 小曝光特征尺寸小于8nm
• 高速度曝光，可采用50或100MHz的圖形發生器
• 在所有KVs加速電壓下，可連續改變的寫場大小，大可以到1mm
• GUI人機交互界面友好，簡潔易用，適用于多用戶環境
• 多項靈活可選擇的配置，可以適用于不同應用的需求

可選的系統增強升級

EBPG5150可以選擇不同的升級選項，以滿足用戶不同的技術和預算需求。讓*的高校等研究類用戶也可以使用這款非常先進、高自動化的電子束光刻系統。

電子束直寫系統EBPG5150 應用

• 電子束曝光用于制作GaAs T型器件

• 微盤諧振器

• 開口環諧振器

電子束直寫系統EBPG5150 產品詳情