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上海沛沅儀器設備有限公司專業從事等離子體應用技術研究開發和相關設備、產品的生產，并致力于等離子體應用技術的市場推進和產業化。公司由長期從事等離子體應用技術研究開發、多次參與國家重大科學工程研究的專家和產業化專家聯合創建，核心團隊來自中科院應用物理研究所、中國科技大學、上海科技大學,美國橡樹嶺實驗室歸國博士等頂尖科研機構。
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ICP等離子刻蝕機產品參數
| 類別 | ICP刻蝕 | 顏色 | 白色 |
| 電源 | 220V |
ICP等離子刻蝕機詳細信息
ICP干法刻蝕是一種常見的微納加工技術,其原理是利用高頻電場將氣體離子化,使其形成等離子體,然后將等離子體引入反應室中,利用反應室內的化學反應對材料進行腐蝕或沉積。 在ICP干法刻蝕中,高頻電場的作用是將氣體分子電離,形成電子和離子。離子在電場的作用下加速運動,并與反應室內的氣體分子發生碰撞,進而形成等離子體。等離子體具有高溫、高能量的特性,可以對材料進行高效率的加工。 ICP干法刻蝕的特點是能夠實現高精度、高速度和高均勻度的刻蝕,且對材料的損傷較小,常用于微電子器件制造、光學器件加工等域。但需要注意的是,在使用ICP干法刻蝕時,應選擇合適的氣體、功率和反應室溫度等參數,以避免對材料造成負面影響。
ICP等離子刻蝕機WINETCH是面向科研及企業研發客戶使用需求設計的高性價比ICP等離子體系統。作為一個多功能系統，它通過優化的系統設計與靈活的配置方案，獲得高性能ICP刻蝕工藝。該設備結構緊湊占地面積小，專業的機械設計與優化的自動化操作軟件使該設備操作簡便、安全，且工藝穩定重復性很好。
ICP等離子刻蝕機WINETCH產品特點：
● 4/6/8英寸兼容，單片晶圓真空傳輸系統
● 低成本高可靠，適合研發及小規模生產
● 設備結構簡單，外形小
● 操作簡便、便于自動控制、適合大面積基片刻蝕
● 優異的刻蝕均勻性，刻蝕速率快
●滿足半導體標準的配方驅動及管理軟件控制系統
● 選擇比高、各向異性高、刻蝕損傷小
● 斷面輪廓可控性高，刻蝕表面平整光滑
ICP等離子刻蝕機技術參數：
晶圓尺寸：4/6/8英寸兼容
適用工藝：等離子體刻蝕
適用材料：SiC、Si、GaN、GaAs、InP、Ploy，etc.
適用領域：化合物半導體，MEMS、功率器件、科研等領域
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移動站：ICP等離子刻蝕機
內容聲明：
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