設(shè)備簡介

真空蒸餾爐主要供大專院校、科研單位及生產(chǎn)企業(yè)在高真空或保護(hù)氣氛條件下對金屬材料進(jìn)行熔煉、真空澆鑄或者蒸餾之用，蒸餾是通過將化合物溶液加熱到其中某種元素的沸點，頂部加裝有一冷凝收集裝置，收集被蒸餾的金屬，實現(xiàn)蒸餾收集作用。

真空蒸餾爐簡介

1、極限真空度：≤6.7*10E-3Pa

2、加熱溫度：1800℃

3、坩堝容量：5Kg(按7.8g/cm3計算)

4、保護(hù)氣體：≤0.03MPa氮氣或者氬氣

5、設(shè)備電壓：380v/三相五線/50Hz

6、設(shè)備功率：≤25Kw（以實際設(shè)計為準(zhǔn)）

7、控制方式：PLC人機(jī)界面控制

8、測溫控溫：熱電偶

結(jié)構(gòu)說明
1、本設(shè)備由高真空腔體、爐架、真空系統(tǒng)、熔煉裝置、冷凝收集裝置、爐蓋開啟裝置、    感應(yīng)電源裝置及控制系統(tǒng)、水冷管集成裝置等組成。
2、高真空腔體：爐體、爐蓋均采用雙層水冷層結(jié)構(gòu)，內(nèi)外壁均為304不銹鋼，為保證真空度，內(nèi)壁鏡面拋光；外壁噴砂電解處理。爐體法蘭平面開設(shè)密封槽。采用氟橡膠            “0”  圈真空密封。在爐體的兩側(cè)設(shè)有抽氣孔、電極裝置，測溫裝置、充氣接口等。爐蓋上設(shè)有觀察窗、放氣裝置、機(jī)械防爆裝置等
2、爐架：由型鋼和數(shù)控折板組裝成爐架，用于支撐爐體，并做為操作平臺，還和電控箱作為一體，使操作更具人性化。
3、真空系統(tǒng)：由壹臺直聯(lián)泵、壹臺分子泵、充氣閥、放氣閥、氣動高真空閥、真空壓力表（±Pa）和真空管路等組成。
4、熔煉裝置：由感應(yīng)線圈、保溫套、石墨套和熔煉坩堝組成，底部有測溫?zé)犭娕?，可根?jù)工藝自動調(diào)節(jié)溫度。
5、冷凝收集裝置：在熔煉坩堝的正上方，有一段鉬過渡管，將熔煉坩堝和冷凝收集器相連接，并帶有測溫?zé)崤?，可隨時監(jiān)測溫度。冷凝收集裝置采用雙層水冷結(jié)構(gòu)。
6、爐蓋開啟裝置：采用兩根氣彈簧，往后開啟，并帶鎖緊裝置
7、感應(yīng)電源裝置及控制系統(tǒng)：電源采用超音頻感應(yīng)電源，節(jié)能，無噪音，加熱速度快，并且可根據(jù)程序儀表實現(xiàn)自動升溫降溫。控制系統(tǒng)設(shè)有過流、過壓返饋及保護(hù)電              路，電控屏箱按西門子標(biāo)準(zhǔn)制作，結(jié)構(gòu)美觀，操作方便。
8、水冷管集成裝置：由各種管道閥門等相關(guān)裝置組成，具有水壓欠壓、斷水聲光報警自動切斷電源功能，保證操作安全 真空腔體和電源線圈上所有需要水冷的地方都已連       接好，并留有總進(jìn)出水口，客戶只需將外圍冷卻循環(huán)水系統(tǒng)的進(jìn)出水與爐子的總進(jìn)出水管對接后即可使用