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大塚電子主要銷售用于光學特性評價?檢查的裝置。其裝置用于在LED、OLED、汽車前燈等的光源?照明產業以及液晶顯示器、有機EL顯示器等平板顯示產業以及其相關材料的光學特性評價?檢查。以高速?高精度?高可靠性且有市場實際應用的分光器MCPD系列為基礎，在中國的顯示器市場上有著20年以上銷售實例，為許多廠家在研究開發、生產部門所使用。并且在光源?照明相關方面，對國家級研究機構、各個廠家的銷售量在逐步擴大。
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OTSUKA大塚超高速光譜干涉厚度儀-自動解析產品參數
| 產地類別 | 進口 | 價格區間 | 10萬-20萬 |
| 應用領域 | 能源,電子/電池,道路/軌道/船舶,汽車及零部件,電氣 |
OTSUKA大塚超高速光譜干涉厚度儀-自動解析詳細信息
OTSUKA大塚超高速光譜干涉厚度儀-自動解析
OTSUKA大塚超高速光譜干涉厚度儀-自動解析
一、產品簡介
大塚 OTSUKAOPTM 系列顯微分光膜厚計（顯微光譜薄膜厚度計），日本原裝、蘇州大塚國產化落地，依托顯微光譜干涉 + 絕對反射率分析法，非接觸、無損測膜厚，對標橢偏儀，可同時測膜厚、折射率 n、消光系數 k，是半導體、光學鍍膜、顯示行業微區薄膜檢測主力機型。
二、測量原理
寬光譜光源經顯微物鏡打在薄膜表面，光在薄膜上表面、膜 / 基底界面分別反射產生光干涉；設備采集全波段反射光譜，通過 FFT / 非線性擬合算法解析干涉波形，換算薄膜厚度與光學常數；反射式物鏡，消除透明基板背面反光干擾，玻璃 / 石英基底薄膜也可精準測試。
三、核心技術參數（OPTM 全系列）
1、三大機型分類（按結構）
| OPTM-A | 自動 XY 位移平臺 | 實驗室多點點測、晶圓整片掃描 |
| OPTM-F | 固定式臺架 | 研發固定樣品測試 |
| OPTM-H | 分體測量探頭 | 自動化產線嵌入在線檢測 |
2、三檔波長選型（決定測厚范圍）
OPTM-A1/F1/H1（UV 紫外款：230～800nm）
測厚：1nm～35μm（SiO?基準），最小光斑3μm，超薄氧化膜、光刻膠
OPTM-A2/F2/H2（可見光：360～1100nm）
測厚：3nm～50μm，ITO、PI、光學涂層通用
OPTM-A3/F3/H3（近紅外：900～1600nm）
測厚：16nm～92μm，厚膠、樹脂、紅外鍍膜測量
3、關鍵性能
單點測量：≤1 秒 / 點位
精度：納米級，SiO?重復精度＜0.2nm
解析能力：最高同時解析 50 層多層復合薄膜
最小光斑：標配 10× 物鏡 φ20μm，選配物鏡可達φ3μm（微區定點測，芯片微小焊盤 / 鈍化膜）
四、同品牌其他薄膜厚度計（OTSUKA 全品類）
FE-3/FE300 通用分光膜厚計（經濟型）
FE300UV：300~800nm，10nm~20μm；FE300NIR 近紅外款 3μm~300μm，桌面經濟型，無顯微鏡頭、大光斑，量產常規薄膜質檢。
SF-3 干涉式膜厚儀：激光干涉原理，厚樹脂 10~2600μm，卷材、厚膠在線監測。
TE 系列全自動晶圓機臺：8/12 寸晶圓整機設備，機械手自動上下料，半導體工廠量產線專用。
五、應用行業 & 待測薄膜
1、半導體晶圓
SiO?柵氧、Si?N?氮化膜、光刻膠、多晶硅、鈍化膜、外延層（GaN/GaAs/SiC）。
2、平板顯示 FPD
LCD/OLED：ITO 導電膜、PI 取向膜、液晶層、彩色濾光片、封裝膠膜。
3、光學鍍膜
AR 增透膜、濾光片多層膜、DLC 類金剛石膜、玻璃鍍膜。
4、高分子功能膜
PET/PC 基材硬化涂層、防指紋膜、光學偏光補償膜、膠水層。
六、設備優勢
無損非接觸：不劃傷晶圓 / 光學件，來料全檢無報廢；
替代橢偏儀：性價比更高，軟件一鍵建模，新手向導式操作，無需專業光學知識；
定制化：測量探頭可拆分，集成自動化流水線、涂布機在線實時測厚；
軟件功能：自帶測量宏編程、批量數據導出、厚度上下限報警。
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內容聲明：
您訪問的OTSUKA大塚超高速光譜干涉厚度儀-自動解析產品信息，由北崎國際貿易（北京）有限公司自行發布提供，產品價格為面議，如您想了解更多關于OTSUKA大塚超高速光譜干涉厚度儀-自動解析型號、參數、用途等信息，歡迎咨詢。
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