山本鍍金 電鍍設備 無電解

A-52-ST-EL：旋轉 + 上下往復擺動雙動式化學鍍高配機型無需陰陽極電極、無需外接電鍍電源，是半導體化學鍍工藝專屬試驗槽，可配套 B-93 系列溫控、A-60/A-61 液位組件組成恒溫閉環化學鍍系統

山本鍍金 電鍍設備 無電解

雙運動對流設計（核心差異化優勢）

晶圓水平旋轉 + 整體架體垂直往復擺動，兩套轉速獨立可調，流場擾動更強，高深寬比盲孔、微孔內部藥液置換效率遠超單旋轉機型，鍍層填充完整性更優

純化學鍍架構，無需外接電鍍電源

取消陰陽極導電結構，依靠鍍液還原劑自催化沉積，硅片、玻璃、陶瓷等絕緣基材活化后均可完整上鍍，適配 UBM 打底、基板金屬化前置工藝驗證。

可多片同步加工，半定制適配靈活

標配單晶圓夾持結構，支持定制改造成一次裝載多片試樣；可按 2~12 英寸晶圓、方形試片尺寸定制夾具，適配不同試樣規格研發需求，屬于接單定制機型。

耐蝕防腐結構適配高溫化鍍工況

槽體、晶圓載架采用 PP/PEEK 耐酸堿材質，耐受各類酸性、堿性化學鍍藥液，長期浸泡不變形；最高適配 90℃高溫化學鍍體系，匹配化鍍常規高溫工藝區間。

原廠溫控液位系統無縫兼容

可搭配 B-93-YPT/YTC 系列溫控精準控溫，外接 A-60 液位傳感器、A-61 補液控制器，實現低液位防干燒、自動恒液位補液，保障平行實驗重復性。

一機多工藝復用

除化學鍍外，可用于晶圓清洗、濕法蝕刻、表面活化、浸泡處理等工序，設備利用率高，節省實驗室設備投入。