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NS-HR 厚膜測量儀產品參數
| 產地類別 | 國產 | 價格區間 | 面議 |
| 應用領域 | 綜合,半導體 |
NS-HR 厚膜測量儀詳細信息
NS-HR 厚膜測量儀集成了悉識科技多項創新技術，專為厚膜檢測設計的桌面式測量方案，覆蓋10μm至3mm的廣泛測量范圍，滿足半導體、光學和科研領域的厚膜測量需求。
核心特性：
1.寬測量范圍：覆蓋10μm至3mm的廣泛厚度范圍，滿足各種厚膜測量需求
2.高精度性能：測量精度可達±0.1%，在厚膜測量中保持出色的測量穩定性
3.快速測量：單點測量僅需2秒，支持連續快速掃描測量
4.多種型號：提供三種不同配置型號，滿足不同應用場景和預算需求2.雙參數測量：可同時測量薄膜厚度和光學常數（n, k），為材料研究提供更全面的數據支持
產品型號
NS-HR 厚膜測量儀核心優勢：寬范圍厚膜測量
NS-HR系列提供從10μm到3mm的廣泛測量范圍，滿足各種厚膜應用需求
10 μm
最小測量厚度，適合較厚薄膜測量
10μm-3mm
寬測量范圍，覆蓋各種厚膜應用
3 mm
最大測量厚度，適合超厚樣品
技術參數
| 型號 | NS-HR980 | NS-HR980 Max | NS-HR1310 | NS-HR1550 | VIS延伸 |
| 波長范圍 | 960 nm – 1000 nm | 1280 nm – 1340 nm | 1520 nm – 1580 nm | 380 nm – 1050 nm | |
| 厚度測量范圍 折射率n=1.5 (透明介電材料) | 10 μm – 1 mm | 15 μm – 2 mm | 25 μm – 3 mm | 15 nm – 100 μm | |
| 厚度測量范圍 折射率n=2.6 (SiC) | 6 μm – 600 μm | 9 μm – 1.2 mm | 15 μm – 1.8 mm | 10 nm – 60 μm | |
| 厚度測量范圍 折射率n=3.5 (硅片) | 4 μm – 350 μm | 7 μm – 1 mm | 10 μm – 1.3 mm | 6 nm – 30 μm | |
| 準確度（取較大者） | 50 nm 或 0.4% | 50 nm 或 0.4% | 50 nm 或 0.4% | 2 nm 或 0.2% | |
| 重復精度1 | 5 nm | 0.02 nm | |||
| 穩定性2 | 5 nm | 0.05 nm | |||
| 光斑大小 | 500 μm | 1.5 mm | |||
| 測量速度 | 可選配1Hz或1kHz | 可選配1Hz或1kHz | |||
| 光源 | 鹵鎢燈或SLED選配 | 鹵鎢燈 | |||
| 樣品尺寸 | 直徑從1mm 到 300mm或更大 |
| 系統參數 | |
| 參數項 | 規格 |
| 設備尺寸 | 300mm × 250mm × 350mm |
| 重量 | 約8kg |
| 工作距離 | 50-100mm |
| 接口 | USB 3.0, Ethernet |
| 電源 | AC 100-240V / 50-60Hz |
| 工作溫度 | 15°C - 35°C |
| 操作系統 | Windows 10/11 |
| SDK支持 | C++, C#, Python, LabVIEW |
應用領域
半導體制造
用于測量硅片厚度、外延層厚度等半導體制造關鍵參數，確保產品質量。
光學元件
測量光學窗口片、透鏡、棱鏡等光學元件的厚度，確保光學性能符合設計要求。
科研開發
為科研機構和大學提供高精度厚膜測量能力，支持新材料研發和基礎研究。
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移動站：NS-HR 厚膜測量儀
內容聲明：
您訪問的NS-HR 厚膜測量儀產品信息，由蘇州悉識科技有限公司自行發布提供，產品價格為面議，如您想了解更多關于NS-HR 厚膜測量儀型號、參數、用途等信息，歡迎咨詢。
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