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POLOS為半導體、生命科學、食品、實驗室和制藥行業提供設備，特別是針對大學、研發機構和小型生產設施。我們的產品組合包括用戶友好和高度耐用的系統，主要用于光刻和錯位工藝領域。POLOS成立于2003年，第一條生產線:單芯片旋涂系統。到今天為止，這些系統已經在全球銷售了超過4000臺。多年來，我們有幸推出了許多其他新的POLOS產品。基于長期的經驗和用戶反饋，我們精心開發我們的設備，以支持您的工藝。
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SPS NPP旋涂機用于晶圓處理系統產品參數
| 產地類別 | 進口 |
SPS NPP旋涂機用于晶圓處理系統詳細信息
SPS NPP旋涂機用于晶圓處理系統 S150X-ST
基片旋涂機是什么？
基片旋涂機也常稱作勻膠機、甩膠機，是依靠高速旋轉產生離心力，在各類平整基片表面制備超薄均勻液態薄膜的精密工藝設備。設備依靠真空吸附固定硅片、玻璃、陶瓷、柔性基材等基片，將液態功能溶液滴注在基片中心，通過分段變速旋轉讓液體向外均勻鋪展，甩出多余原料并同步揮發溶劑，最終形成致密平整、厚度可控的固態薄膜，可通過調節轉速、旋轉時長、環境溫濕度精準管控膜層厚度與整體均勻度，適配納米至微米級涂層加工需求。
型號示例：
S150X-ST-PP POLOS® SPIN150x Standard NPP旋涂機
主體材質：原生聚丙烯（NPP）整機塑料結構
POLOS 系列旋涂設備二十余年來應用于研發以及小批量生產領域，全球裝機數量超 5000 臺。SPIN150x 整機采用耐用原生聚丙烯材質，可適配最大 6 英寸晶圓以及 4 英寸方形基板，適用于多種工藝處理。
主要特性：
適用性強，同一機型可集成艙內安裝或臺式擺放兩種使用方式；
配置液體收集過濾器、機蓋鎖止結構以及真空監測傳感器，提升使用安全性；
采用多方位無刷間接驅動方案，最高轉速 12000 轉 / 分鐘，配備電機原點復位功能，運行控制精度高；
搭載觸摸屏操作界面，可存儲無數量限制的工藝程序；
支持后期功能解鎖升級。
可選配套工裝：
真空吸盤：承載面直徑 45 毫米，真空吸附區域直徑 36 毫米
真空碎片載臺轉接件：承載面直徑 50 毫米，真空吸附區域直徑 10 毫米
SPS NPP旋涂機用于晶圓處理系統 S150X-ST
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內容聲明：
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