目錄:中美合資合肥科晶材料技術有限公司>>CVD、PECVD設備>>PECVD管式爐>> -OTF-1200X-50-PE-SPECVD管式爐
OTF-1200X-50-PE-S是一款小型的PE-CVD(等離子體氣相沉積)管式爐系統。此套設備帶有500W的等離子射頻電源,一個爐管直徑為50mm的開啟式管式爐(帶有真空法蘭和連接管道)和一個直聯式雙旋機械泵。因此這套設備模型可以更新為不同的PECVD 系統。對于有限的經費的情況下來進行材料探索,此套系統極為理想。
特征:
1、與普通CVD相比可以在低溫環境下進行氣相沉積實驗
2、對于薄膜的應力可以通過射頻電源的頻率來進行控制
3、通過工藝調節來控制化學計量
4、能夠廣泛地用于各種材料沉積,如SiOx, SiNx, SiOxNy 和無定型硅(a-Si:H) 等.
技術參數
| 開啟式管式爐 |
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| 等離子體射頻電源 |
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| 真空法蘭和接頭 |
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| 真空泵
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| 產品尺寸和重量 | 外形尺寸:1500mm x 600mm x 1200mm( L x W x H) 凈重: 160 lbs |
| 可選配置 | 請點擊查看下面的混氣及氣液混合系統
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| 質保期 | 一年質保期,終生維護(不包括爐管、硅膠密封圈和加熱元件) |
| 質量認證 | CE Certified |