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脈沖激光沉積、分子束外延薄膜制備系統（NEW）等由美國BlueWave生產，可制備的薄膜包括氮化物、氧化物、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2D材料。Blue ...

美國Thermal Technology熱壓爐是為同時需要高溫和高壓的復雜實驗或研究工作而開發設計的。主要應用于粉末材料的稠化、固體部件的擴散粘結、纖維復合材料...

美國Thermal Technology實驗室真空高溫爐適用于各種實驗室應用及小規模生產。操作簡單，性能穩定，有石墨高溫爐和金屬高溫爐可選，可定制溫度達3000...

美國Thermal Technology電弧熔煉爐可以有效的應用于粉末熔煉、電弧鑄造，金屬、化合物材料的合成。BJ5電弧熔煉爐操作方便，可靠性高，通用性強，同時...

美國Thermal Technology自動熱處理爐/陶瓷熱處理爐，全自動、無人值守操作，Z高可定制溫度達2500℃。工件熱處理循環時升溫速率100℃/min，...

3D納米結構高速直寫機-NanoFrazor Explore的問世，源于IBM蘇黎世研發中心在納米加工技術的研究成果。NanoFrazor 3D納米結構直寫機*...

高壓光學浮區法單晶爐是適用于生長各種超導材料單晶，介電和磁性材料單晶，氧化物及金屬間化合物單晶等。浮區法單晶爐中的轉動以及拉伸等控制部分采用了電子控制，與傳統的...

Quantum Design公司近日推出新款高精度光學浮區法單晶爐,這款高性能單晶爐采用鍍金雙面鏡、高反射曲面設計，溫度可達2100-2200攝氏度,系統采用高...

薄膜材料的真空、等離子制備、處理技術現已被廣泛應用于半導體、光電、太陽能等域的研發以及成產當中，這些技術包括：等離子體增強化學氣相沉積反應器（PECVD Rea...

Microwriter ML3小型臺式無掩膜光刻系統，具有結構小巧緊湊（70cm X 70cm X 70cm），無掩膜直寫系統的靈活性，還擁有高直寫速度，高分辨...

原子層沉積（Atomic layer deposition）是將氣相前驅體脈沖交替通入反應器，化學吸附在沉積襯底上并反應形成沉積膜的種方法，是種可以將物質以單原...

NTI納米膠體/納米顆粒制備儀采用PWE（Pulsed Wire Evaporation脈沖金屬絲蒸發）技術，可以高效方便的制備大量納米顆粒。設備簡單便宜，運行...

QuickPress活塞圓筒高壓裝置廣泛應用于高溫高壓實驗研究域，可進行有關地球科學、高壓物理、凝聚態物理、固體化學、材料科學等方面的研究。

德國Gero出品的高溫石墨爐/金屬爐/陶瓷爐，樣品腔大小1L到600L，可以為實驗室、小規模生產服務，適用于各種類型的熱處理工藝過程?？捎糜?x10-6mbar...

德國Gero高溫箱式爐，為您提供30℃到3000℃溫度范圍，可實現退火、燒結、排膠、滲硅滲碳、原型速成等多種功能。