隨著國內半導體自主化產業高速發展，晶圓CMP化學機械拋光工藝的精細化管控水平，直接決定國產芯片制造品質與產能規模，而過氧-化氫氧化劑濃度管控，是CMP制程工藝管控當中最核心的一環。

拋光液內部過氧-化氫含量失衡，是造成晶圓表面腐蝕、拋光不均、去除速率異常等不良品產生的主要誘因；而生產現場揮發溢出的過氧-化氫氣體，會持續破壞無塵潔凈車間生產環境，對光刻、離子注入、薄膜沉積等高精度制程造成不可逆影響，雙重風險倒逼晶圓企業建立常態化濃度檢測機制。

科爾諾GT-1000便攜式過氧-化氫檢測儀，針對半導體無塵車間工況環境與CMP工藝檢測痛點深度研發，硬件配置、外觀結構、功能邏輯全部貼合晶圓工廠實際生產需求。

儀器采用低濃度高靈敏電化學傳感核心，可精準識別車間ppb級微量揮發氣體，高量程版本可直接匹配拋光液高濃度組分檢測需求；整套采樣氣路采用半導體專用特氟龍材質，耐氧化、低吸附、無雜質析出，嚴格保障高純度檢測環境不受污染。

在實際現場工藝管理當中，工作人員可嚴格按照標準化流程完成定點定時采樣檢測，單點位持續采樣5分鐘采集平均濃度與峰值濃度，真實反映現場濃度真實狀態；依托設備數據導出功能，長期匯總濃度數據，梳理工藝波動規律，持續優化拋光液配比、機臺排風效率、清洗工藝參數。

整機IP67高防護結構，無凹凸積塵結構，日常使用無塵布即可快速完成清潔消殺，契合無塵車間日常管理標準；長續航設計可滿足廠區多棟廠房、多條產線不間斷巡檢工作，大幅提升廠區工藝巡檢與環境安防工作效率，是半導體企業完-善CMP制程質控體系、筑牢無塵車間環境安全防線的核心配套檢測設備。