213nm，脈寬7-10ns，1kHz，0.2mJ的Ekspla NL200激光器  

Ekspla納秒激光器NL200系列可配備532nm，355nm，266nm和213nm波長的諧波發生模塊。出色的能量穩定性和廣泛的波長選擇使Ekspla NL200激光器成為光譜學、光聲成像和遙感應用的好工具。機械穩定和氣密密封的設計確保了213nm納秒激光器組件的可靠運行和長壽命。再加之該213激光器短脈沖持續時間、可變重復頻率、外部TTL觸發和納秒二極管泵浦等特性，NL200系列納秒激光器對于脈沖激光沉積、透過面板的剝蝕或者對透明材料的內雕等需要高脈沖能量的應用擁有較高的性價比。

在保持恒定脈沖能量的同時連續調整重復頻率、光束指向和能量穩定性使213高能量納秒激光器成為微加工、打標、薄膜去除應用的優先選擇。213nm ns激光器NL201，NL202和NL204具有接近高斯平滑光束輪廓，具有低值M₂<1.3和良好的可聚焦性，有利于LCD和OLED顯示器修復等應用。Ekspla納秒激光器緊湊輕便，使激光器易于運輸，可有效節省寶貴的實驗室空間。

Ekspla 213nm激光器1064nm基頻光可輸出高達4mJ的脈沖能量，266nm輸出0.6mJ。213激光器在213nm輸出脈沖能量0.2mJ。該213nm納秒激光器NL201的最高頻率可達2500Hz，NL202和NL204的最高頻率為1000Hz。213高能量納秒激光器的脈寬為7-10ns，M²<1.3，典型光束直徑 0.7mm。

NL201，NL202，NL204--213nm納秒激光器的主要特點：  

-在1064nm處高達4 mJ的脈沖能量（NL204）

-高達2500Hz的可變重復頻率（NL201）

-可配備532nm，355nm，266nm和213nm波長的諧波發生模塊

-<10ns脈沖持續時間

-電光Q開關

-風冷

-外部TTL觸發

-使用REST API命令，通過鍵盤和/或在任何作系統上運行的任何控制器進行遠程控制

NL201，NL202，NL204--213nm納秒激光器4的主要應用：  

-材料加工

-LCD和OLED顯示屏維修

-打標

-微加工

-雕刻

-激光沉積

-激光清洗

-燒蝕

-光譜學

-OPO泵浦

-遙感

Ekspla213nm ns激光器NL201，NL202和NL204的規格：  

Ekspla213nm納秒激光器遠場中的典型光束強度分布