50,100×,焦距1.8,3.6mm,1064nm,45mm齊焦近紅外物鏡M-ePLAN-NIR

Shibuya M-ePLAN-NIR 系列是一款高性能的無限遠校正物鏡，專為1064nm YAG 激光的精密加工系統量身打造。本系列產品不僅優化了激光加工性能，將其校正范圍擴展至可見光（640nm）與近紅外（940～1064nm）波段，實現了“加工中實時觀測" 的一體化解決方案，極大地提升了工業微加工流程的精度與效率。西格瑪光機提供近紅外高功率物鏡HPOBL-NIR系列，與Shibuya的M-ePLAN-NIR系列物鏡一樣，其齊焦距離為45mm。Shibuya澀谷光學45mm齊焦近紅外物鏡

45mm齊焦近紅外物鏡技術參數表（上表為Shibuya型號，下表為西格瑪光機型號）：

澀谷光學45mm齊焦距離物鏡產品描述

45mm齊焦距離物鏡是專為YAG激光（1064nm）加工設計的高數值孔徑無限遠校正物鏡，同時可用于明場觀察，具有以下特點：

-無限遠校正光學系統

-45mm齊焦近紅外物鏡校正范圍覆蓋可見光（640nm）與近紅外（940～1064nm）波段

-高分辨率規格，齊焦距離：45mm

-NIR50型號具備可調工作距離，NIR100型號配備保護玻璃，耐受高功率激光

-近紅外物鏡45mm齊焦核心性能優勢：高NA與針對性設計滿足嚴苛需求該系列提供 50倍及100倍 兩種核心倍率，突出的特點是全系配備了高的數值孔徑。

-近紅外物鏡45mm齊焦分辨率與加工精度：數值孔徑（NA）高達 0.65 至 0.8，確保了物鏡具備高的分辨率，能將激光能量匯聚成亞微米級的微小光斑，這對于實現高精度的切割、打標和微納加工至關重要。

45mm齊焦距離物鏡靈活性與耐用性兼備：M-ePLAN-NIR50 型號提供了 3.1mm 至 3.83mm 的可調工作距離，為用戶在復雜工況下進行調焦或避讓夾具提供了極大的操作靈活性。而兩款100倍物鏡，特別是 M-ePLAN-NIR100A，則通過集成專用保護玻璃，顯著提升了其對高功率激光的耐受性，保障了設備在長期高強度使用下的穩定與可靠。

為工業集成優化的設計特性：澀谷光學45mm齊焦近紅外物鏡嚴格遵循 45mm 齊焦距離 工業標準，使得在集成多物鏡的自動化加工平臺上進行快速、精準的倍率切換變得輕松便捷，有效減少重復對焦時間，提升產線吞吐量。此外，物鏡外形結構緊湊，便于集成到各種激光加工頭或顯微系統中。

廣泛的應用場景覆蓋憑借其*的性能，澀谷光學近紅外物鏡45mm齊焦是以下應用的理想選擇：精密激光微加工：如半導體芯片的微切割、FR4/PCB材料的精密切割與鉆孔，以及金屬表面的精細打標；科研與實驗：在需要高功率激光照射與同步成像的優良光學實驗 setups 中作為核心成像組件；工業在線檢測與質量監控：在激光加工的同時，直接對加工效果進行高清晰度的原位質量監測與控制。

Shibuya近紅外物鏡45mm齊焦M-ePLAN-NIR50，M-ePLAN-NIR100，M-ePLAN-NIR100A外形圖：

西格瑪光機/ Optosigma的近紅外高功率物鏡HPOBL-NIR系列產品描述

該系列物鏡全部采用合成石英材料制成，鏡片之間采用空氣隙設計而非光學膠膠合，以提升高功率激光條件下的穩定性與可靠性，適用于大功率激光的聚焦或準直應用。

具體型號包括HPOBL-20-NIR、HPOBL-10-NIR和HPOBL-5-NIR。這些物鏡針對可見光至近紅外波段單色光設計，鍍有980~1100nm寬帶減反射膜，可支持較寬光譜范圍內的多種波長激光。此外，它們在632.8nm波長仍具有一定透過率，可使用He-Ne激光作為導向光。

HPOBL-NIR系列物鏡不僅適用于激光加工，也可用于觀察與分析用途。為保護物鏡免受激光加工時飛濺粉塵的損傷，10倍物鏡可安裝可更換的保護窗玻璃，而20倍物鏡已標配自帶保護窗玻璃。Shibuya澀谷光學45mm齊焦近紅外物鏡