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Ion Source離子源適用于各種應用的高亮度等離子離子源
等離子離子源 LMIS 和 GFIS 是三種常見的離子源類型。LMIS 和 GFIS 具有出色的源亮度。因此，它們被廣泛用于高分辨率離子束成像和微加工應用。然而，LMIS 和 GFIS 的總電流比等離子離子源低許多數量級。如果特征尺寸大于 50 nm，則等離子離子源可以實現比 LMIS 和 GFIS 高得多的通量。
等離子離子源可以通過改變工藝氣體產生不同種類的離子。此外，等離子離子源能夠與質量過濾器結合使用產生負離子種類。
我們在為大學和工業的研究實驗室設計定制的高亮度等離子離子源和離子光學柱方面擁有豐富的經驗。請聯系我們討論您的要求。
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