一、日常維護(hù)要點(diǎn)
1. 整機(jī)基礎(chǔ)維護(hù)
NanoMixer 微流控合成儀每次實(shí)驗(yàn)結(jié)束后及時(shí)清理設(shè)備臺(tái)面、管路接口及腔體表面，去除試劑殘留、粉塵與液漬；保持設(shè)備放置區(qū)域干燥通風(fēng)，遠(yuǎn)離高溫、強(qiáng)振動(dòng)及腐蝕性氣體，避免機(jī)身元器件老化、接口松動(dòng)。
2. 流路與芯片維護(hù)
實(shí)驗(yàn)前后檢查微流控芯片、進(jìn)樣管路、接頭是否松動(dòng)、漏液、堵塞；嚴(yán)禁使用雜質(zhì)、顆粒物過(guò)多的試劑，防止微通道堵塞；閑置時(shí)將芯片妥善密封存放，避光防塵，避免磕碰損傷流道結(jié)構(gòu)。
3. 泵體與控制系統(tǒng)維護(hù)
定期檢查蠕動(dòng)泵、注射泵運(yùn)行狀態(tài)，觀察轉(zhuǎn)速平穩(wěn)性與推液均勻度；定期校準(zhǔn)流量參數(shù)，清理泵頭污漬；避免長(zhǎng)時(shí)間滿負(fù)荷連續(xù)運(yùn)行，間歇停機(jī)散熱，延長(zhǎng)驅(qū)動(dòng)部件使用壽命。
4. 電路與接口維護(hù)
保持電源接口、通訊端口干燥清潔，禁止?jié)袷植僮髟O(shè)備開(kāi)關(guān)；定期檢查線路是否老化、破損，避免短路、接觸不良等安全隱患。
二、專(zhuān)業(yè)清洗流程
1. 實(shí)驗(yàn)后即時(shí)清洗
實(shí)驗(yàn)完畢先用去離子水置換管路及芯片內(nèi)殘留反應(yīng)液，低速推送清洗液，沖洗微流控通道、進(jìn)樣管路，帶走殘余樣品與試劑，防止溶質(zhì)結(jié)晶堵塞通道。
2. 針對(duì)性溶劑清洗
根據(jù)實(shí)驗(yàn)物料特性選用適配清洗劑：水溶性物料用去離子水沖洗；有機(jī)試劑殘留可選用乙醇、異丙醇低流速循環(huán)清洗；清洗完成后再次用去離子水沖凈殘留溶劑。
3. 芯片拆解清洗
可拆卸芯片輕柔拆解，用專(zhuān)用清洗液浸泡，超聲波低速輕洗，禁止硬物刮擦微通道內(nèi)壁；洗凈后自然陰干，切勿高溫烘烤，防止芯片變形。
4. 管路與接頭清洗
拆卸管路、密封接頭，逐一清洗內(nèi)壁殘留，檢查密封圈是否老化變形，必要時(shí)及時(shí)更換；組裝前確保接口干燥潔凈，杜絕安裝后漏液、壓力不穩(wěn)問(wèn)題。
三、清洗維護(hù)禁忌與注意事項(xiàng)
禁止使用強(qiáng)酸強(qiáng)堿腐蝕性清洗劑，避免腐蝕微流控芯片與管路材質(zhì)；
清洗時(shí)控制流速與壓力，切忌高壓直沖，防止微通道破裂、芯片脫落；
嚴(yán)禁未清洗長(zhǎng)期存放設(shè)備，易造成通道結(jié)晶堵塞、滋生微生物；
NanoMixer 微流控合成儀建立維護(hù)清洗臺(tái)賬，記錄每次清洗時(shí)間、試劑類(lèi)型及部件檢查情況，實(shí)現(xiàn)規(guī)范化管理。
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