Hinds Instruments Exicor DUV 系列深紫外光刻用雙折射測量系統為美國 Hinds 原廠旗艦機型,斬獲 2003 年度 R&D100 科技創新大獎,是全球頭部光刻光學廠商標配檢測設備,嚴格遵循實測工作波長檢測準則,覆蓋 157nm、193nm、248nm 三大主流 DUV 光刻波段,細分 Exicor DUV(157nm 氟化鈣 CaF?專用)、Exicor 193 DUV(浸沒式 193nm 光刻專用)兩款主力機型。設備依托自研 PEMLabs™光彈性調制 + Signaloc™鎖相放大核心技術,光學延遲分辨率可達 0.01nm、快軸角度分辨率 0.01°,測量重復性≤±0.08nm,可精準量化氟化物晶體、熔石英等光刻毛坯本征雙折射與內部殘余應力,從源頭規避光刻成像畸變、線寬偏移缺陷。DUV 標準版配套密閉氮氣吹掃腔體,消除 157nm 波段氧氣吸光干擾、抑制臭氧生成;193DUV 采用風冷光源結構,無需氮氣工況即可穩定作業。
Hinds Instruments Exicor DUV 系列深紫外光刻用雙折射測量系統搭載重型全自動 XY 位移平臺,最大兼容 400×400mm、厚度 200mm 超大尺寸透鏡坯、光掩膜基板,選配 Macro + 全自動掃描軟件實現多工件批量無人值守連續巡檢,生成 2D/3D 雙折射分布云圖、自動換算材料應力數值。整機無移動式光學元器件,長期潔凈室工況穩定性優異,廣泛用于 ArF 浸沒式光刻、KrF 光刻光學毛坯來料檢驗、鏡頭成品出廠全檢、氟化鈣新材料研發測試,適配晶圓光刻光學元件全產業鏈品質管控。