功能性薄膜、電子輔料、光學基材的涂布生產(chǎn),對涂層均勻度、厚度精度、整批一致性要求高,普通涂布設備張力控制差、精度不足,極易出現(xiàn)厚薄不均、漏涂、積膠、基材褶皺等缺陷,嚴重影響成品品質(zhì)。日本ACTIVE ACT-300AI-HS精密涂布機,采用閉環(huán)智能調(diào)控原理,實現(xiàn)高精度、高穩(wěn)定性的精細化涂覆生產(chǎn)。
設備核心采用閉環(huán)涂布控制系統(tǒng),可實時精準調(diào)控涂層厚度與走料速度,全程走料平穩(wěn)、涂覆均勻,有效杜絕各類工藝缺陷,保障單卷及整批次產(chǎn)品精度統(tǒng)一。設備兼容性出眾,可適配柔性薄膜、薄片、硬質(zhì)板材等多類基材,同時兼容多種功能性涂料與粘接膠水,工況適配范圍廣泛,可根據(jù)產(chǎn)品工藝需求靈活定制生產(chǎn)參數(shù)。
搭載智能張力調(diào)控模塊,可精準控制基材運行張力,有效規(guī)避柔性基材拉伸變形、褶皺、跑偏等問題,適配超薄精密基材生產(chǎn)。設備控制系統(tǒng)穩(wěn)定性強,長期量產(chǎn)無精度偏移,大幅降低產(chǎn)品不良率與返工成本。智能化操作界面簡潔直觀,工藝切換便捷,適配多品類、小批量、高精度柔性生產(chǎn)模式,助力企業(yè)提升涂布制程精度與生產(chǎn)效率。
設備專注高精度涂覆工藝,可完成電子功能性薄膜、光學基材、精密輔料、新材料基材的涂層涂覆加工,適配各類高精度、高均勻度要求的精密生產(chǎn)工序。