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該系統為 PECVD系統，它包括真空管式爐系統、石英真空室、真空抽氣與真空測量系統、氣路系統、射頻電源系統、匹配器，溫度范圍寬：100-1100度可調。適用范圍...
薄膜材料制備廣泛用于:真空或氣氛燒結、基片鍍膜等要求加熱溫度較高的實驗環境。該設備技術成熟、質量可靠，溫場均勻，結構合理，法蘭以卡箍密封，安裝拆卸簡便快捷，是各...
主要適用于粉末材料在高溫條件下熱處理或者粉末材料的表面材料生長，該回轉加熱系統集控制系統與爐膛為一體。爐膛使用高純氧化鋁纖維材料，采用電阻絲為加熱元件。加熱系統...
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