一、標準化精密核心參數
Hellma這款CaF?矩形光學毛坯件(CaF2-Rohteil),采用高純單晶氟化鈣原料,經過高精度晶體生長+超精密加工工藝打造而成,參數精準、適配度拉滿,無需復雜二次加工,可直接用于工業精密裝配與光學系統集成,核心規格一目了然:
核心材質:專屬193nm工況LD-C級單晶CaF?,專為深紫外激光場景量身定制,雜質含量極低、光學均勻性出色,性能全面碾壓普通氟化鈣材料
晶體取向:搭載行業黃金<111>結晶取向,高效抑制應力雙折射,實現光路零畸變穩定傳輸
外形尺寸:75.0mm×52.0mm×3.8mm 雙面平晶結構,適配矩形光路窗口、濾光基底、激光傳輸平板等絕大多數主流安裝場景
尺寸公差:全維度±0.1mm高精度公差,裝配貼合度拉滿,規避尺寸偏差導致的光路偏移、設備裝配故障等問題
表面品質:精細研磨工藝打造,表面粗糙度Rq 2μm,平整度與結構穩定性在線,輕松適配各類精密光學工況
防護工藝:標配0.8mm防護倒角,從根源杜絕元件邊緣崩邊、開裂問題,提升抗沖擊能力與使用壽命,適配工業長期量產高頻使用場景

二、全場景適配應用領域
憑借193nm波段頂級光學性能、激光穩定性和高精度結構設計,這款Hellma CaF?單晶元件精準適配各大核心領域,覆蓋深紫外光學、半導體制造、精密檢測等主流場景,實用性拉滿:
1. 半導體193nm光刻輔助光學系統
可作為193nm DUV光刻設備的光路窗口、準直及濾光核心基底,適配28nm~7nm先進半導體制程。依托超低雙折射、高激光損傷閾值的硬核性能,可輕松應對準分子激光長期高頻輻照,穩定光刻光路,大幅提升芯片曝光精度與生產良率,是光刻設備的配套元件。
2. 深紫外激光檢測與校準設備
廣泛適配193nm激光光束校準、能量檢測、光斑分析等精密設備。憑借超低背景熒光、極低光能損耗的特性,可精準還原激光原始參數,杜絕基材自身光學缺陷帶來的檢測誤差,為激光設備標定、精準調試提供高精度光學支撐。
3. 光譜分析與精密科研儀器
適配深紫外光譜儀、真空紫外光學設備、精密拉曼檢測儀器等科研設備。穩定的晶體結構+超低雜散光干擾的雙重優勢,輕松拿捏高精度光譜檢測、微觀光學觀測的嚴苛要求,是精密實驗室科研場景的剛需配件。
4. 工業高功率激光光學窗口
可作為193nm工業激光加工設備的防護窗口、光路隔離核心元件。激光耐久性與結構穩定性,可長期抵御高功率激光沖擊,從容應對復雜工業工況,同時兼顧優秀透光性與機械防護能力,耐用度拉滿。

三、產品應用價值總結
Hellma 193nm LD-C級<111>取向CaF?單晶元件,是深紫外光學領域妥妥的級標準化產品。品牌從晶體生長、晶向精準把控到超精密加工,全流程嚴苛質控,精準解決了傳統氟化鈣元件光學畸變、激光耐候性差、裝配適配度低、易破損等行業痛點。憑借能打的193nm光學性能、高精度尺寸、超長使用壽命,這款元件成為半導體光刻、深紫外激光、精密檢測領域的高性價比核心配件,為光學設備高精度、高穩定、長周期運行保駕護航,工業量產、精密科研場景都能適配!