超構表面由亞波長尺度的人工原子構成,對加工精度、表面質量和設計自由度要求極_高。
作為雙光子無掩模光刻技術的先驅,其 Quantum X 系列無掩膜激光直寫設備搭載專_利雙光子灰度光刻技術,最小特征尺寸可達 160nm,表面粗糙度≤10nm。其中 Quantum X align 系統具備納米級對準精度,可在光纖、芯片及晶圓上制造高分辨率三維結構,能精準加工超構表面的自由曲面等復雜結構,納糯三維Nanoscribe作為其中國全資子公司,負責該系列設備的推廣和本土化服務。

技術特點: 專注于雙光子聚合(TPP)3D光刻技術,其 Photonic Professional GT 系列是行業標_桿。
優勢: 能夠實現真正的三維微納結構加工,分辨率可達百納米甚至更高,特別適合制作具有復雜三維形貌的超構表面(如各向異性納米柱陣列)。
適用性: 是研發先進、復雜3D超構表面的理想選擇。

超構表面的亞波長結構調控需求,對光刻設備提出近乎苛刻的要求。納糯三維Nanoscribe Quantum X 系列設備憑借 160nm 三維橫向特征尺度控制與≤10nm 的表面粗糙度表現,輕松駕馭自由曲面、衍射陣列等復雜結構加工。其核心 2GL® 技術融合灰度光刻的高效與雙光子聚合的精準,通過 1MHz 速率動態調節激光功率,實現從納米到中尺度的跨維度制造,完_美適配超構表面對光相位、振幅的精細調控需求。?

在前沿科研中,這款設備已成為突破技術瓶頸的關鍵。某團隊借助其制造的寬帶超構表面,成功破解色散共聚焦技術中 “測量范圍與分辨率” 的固有矛盾,使 100 微米軸向范圍內的橫向分辨率穩定在 1 微米,性能提升 2.5 倍。在生物傳感領域,科研人員利用其一體化加工能力,打印出集成超疏水結構與納米光子元件的傳感器,將病毒檢測靈敏度提升至 0.1 TCID50/mL,檢測時間縮短至 15 分鐘。
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