AC200自動滴膠勻膠機 參考價：面議
控溫勻膠機主要用于在半導體制造、納米技術等領域中，對各種基片進行均勻涂布處理。它通過精確控制轉速和溫度，實現高質量的旋涂效果。
多靶磁控濺射鍍膜系統 參考價：面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸...
蒸發鍍膜機 參考價：面議
1.EC400是一臺高真空蒸發鍍膜設備。2.設備主要由真空室、蒸發源、膜厚監測儀、樣品臺、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸摸屏自動控制系統等組成...
真空鍍膜設備 參考價：面議
鍍膜設備主要功能能夠在微顆粒表面沉積各種金屬薄膜(包括磁性金屬膜)、金屬氧化物薄膜、金屬氮化物薄膜及合金薄膜，且所鍍薄膜致密、均勻、純度高、附著力強等。
小型真空鍍膜機 參考價：面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸...
實驗室真空鍍膜設備 參考價：面議
實驗室真空鍍膜設備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空電阻加熱蒸發，電子槍加熱蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積...
勻膠顯影機 參考價：面議
AC200-PP-CTM勻膠顯影機是一款高性能精密顯影機，采用了*進的設計理念，配合精密的運動控制系統，可以實現高精度、高均勻度的勻膠顯影操作。可以存貯100組...
簡易型烤膠機 參考價：面議
HP10是一款高精密實用型烤膠機，尺寸小巧，可放入手套箱內使用，大適合于8寸圓晶烤膠。HP10結構設計新穎，美觀大方，全不銹鋼機身結構。HP10升溫速度快，由高...
烤膠機 參考價：面議
面板采用不銹鋼310S滲氮，耐高溫不變色設備;采用分層結構，有效隔熱，保護電器元件;四周裝有防燙護欄，降低事故發生率;蓋子帶可視窗，實驗過程實時監測
充氮型程控烤膠機 參考價：面議
程控烤膠機主要用于半導體、微電子等領域的精密加工過程。它通過精確的溫度控制和計時功能，確保材料在加工過程中達到所需的物理或化學狀態。這種設備通常配備有先進的溫度...
離子濺射儀 參考價：面議
離子濺射儀產品簡介：1、人性化設計，儀器操作簡單，一鍵鍍膜。2、儀器小巧，不占空間，適用于實驗室、科研院所等。3、鍍膜均勻細密，適用于多種靶材。4、樣品臺可以快...
等離子清洗機 參考價：面議
PT40K-SE等離子清洗機滿足8寸以下基片使用滿足8寸以下基片使用，適用性廣。它可以高效清洗，快速達成需要的表面親水性。在實驗過程中無環境污染、無化學品消耗、...
等離子清洗機 參考價：面議
PT40K-BE等離子清洗機滿足8寸以下基片使用滿足8寸以下基片使用，適用性廣。它可以高效清洗，快速達成需要的表面親水性。在實驗過程中無環境污染、無化學品消耗、...
等離子清洗機 參考價：面議
PT13M-SE等離子清洗機滿足8寸以下基片使用,一鍵式操控，適用于科研院所等各種實驗環境；它是一種是低溫等離子體，能量低、密度高的設備，適合處理特殊材料；在實...
等離子清洗機 參考價：面議
PT13M-BE等離子清洗機滿足8寸以下基片使用,一鍵式操控，適用于科研院所等各種實驗環境；它是一種是低溫等離子體，能量低、密度高的設備，適合處理特殊材料；在實...
UM10-PE超薄切片機 參考價：面議
10寸全彩觸屏操作，定制單片機控制；高精度機械式推進結構，切片效果平穩連續；刀臺XYR三軸可調，電動精準控制刀臺位移；三目體視顯微鏡可直接觀察，外界4K顯示器；...
蒸發鍍膜設備 參考價：面議
1.EC400是一臺高真空蒸發鍍膜設備。2.設備主要由真空室、蒸發源、膜厚監測儀、樣品臺、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸摸屏自動控制系統等組成...
熱蒸發鍍膜設備 參考價：面議
1.EC400是一臺高真空蒸發鍍膜設備。2.設備主要由真空室、蒸發源、膜厚監測儀、樣品臺、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸摸屏自動控制系統等組成...
磁控濺射鍍膜設備 參考價：面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸...
多功能鍍膜設備 參考價：面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸...
鈣鈦礦鍍膜設備 參考價：面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸...
科研鍍膜機 參考價：面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸...
實驗室鍍膜機 參考價：面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸...
小型鍍膜設備 參考價：面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸...
6