光學鍍膜的質量直接決定濾光片、反射鏡、透鏡等光學元件的性能。全自動臺階儀JS2000B為光學薄膜的厚度測量與均勻性評估提供了便捷的解決方案，支持鍍膜工藝的開發與質量控制。
在多層介質膜系的研發與生產中，每一層膜的厚度都需要精確控制在設計值。JS2000B可以通過在基片邊緣預留的測量區或專門制備的測試片，測量單層或多層薄膜的總厚度。通過臺階測量法，可以直觀地獲取膜厚數據，并與膜系設計理論值進行比對，快速驗證沉積工藝的準確性。其高重復性測量能力，使得監控鍍膜機在不同運行周期內的工藝穩定性成為可能。
對于大口徑光學元件或需要在曲面上鍍膜的情況，薄膜的厚度均勻性尤為重要。通過在元件表面規劃多個測量點，JS2000B可以自動完成測量并生成厚度分布圖，幫助分析鍍膜機內基片架的公轉/自轉特性、膜料蒸發或濺射的角分布對均勻性的影響，從而指導工藝調整與工裝優化。
在光學薄膜的失效分析中，如膜層脫落、應力裂紋等，該設備可以測量缺陷區域的臺階高度變化，輔助分析失效模式與成因。
4