將共聚焦顯微鏡的層析成像能力與干涉儀的高垂直分辨率相結合,是表面測量技術的一個發展方向。視芯光學T100以此理念設計,可被視為一款國產共聚焦干涉儀,它嘗試融合兩種技術的長處,以應對更復雜的測量挑戰。
從原理上看,干涉測量(特別是白光干涉)擅長于快速、高精度地獲取表面的絕dui高du信息,但對于粗糙度較大、側壁陡峭或光學特性復雜的表面,有時會因信號衰減或相位跳變而遇到困難。共聚焦測量通過針孔共軛的物理濾波,能有效抑制雜散光,提升信噪比,尤其擅長測量高傾角表面,并提供出色的橫向分辨能力。
T100在設計中考慮了這種互補性。在測量一些具有復雜幾何形狀的樣品時,例如傾斜側壁、深孔或高反射率/低反射率區域交織的表面,單一的測量模式可能難以獲得完整可靠的數據。此時,T100允許用戶根據樣品不同區域的特征,選擇或結合使用干涉和共聚焦模式進行測量,或者利用共聚焦模式xian進行快速預掃描定位,再用干涉模式對關鍵區域進行精細測量,從而得到更全面、更可靠的三維形貌數據。
這種融合思路在一些前沿制造和研發領域有應用潛力。例如,在增材制造(3D打印)中,成型零件的表面通常具有復雜的自由曲面和微細結構,對其表面質量進行準確評估是工藝優化的重要環節。T100提供的多模式測量能力,可能為這類復雜表面的定量表征提供一種可行的技術途徑。在微納光學元件、復雜模具型腔的檢測中,同樣可能受益于這種多模式測量的靈活性。
視芯光學T100作為國產共聚焦干涉儀的探索,其價值在于通過硬件集成與軟件算法,為用戶提供了更多樣化的測量策略選擇,以適應不同樣品的特性,提升測量數據的完備性和可靠性。