田文杰
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當前位置：北京漢達森機械技術有限公司>>原料>>晶體材料>> CaF2 圓形片Hellma氟化鈣光學晶體材料
Hellma氟化鈣光學晶體材料 CaF2 圓形片
1922 年至今，Hellma 品牌始終專注于光學領域玻璃、石英及晶體材料的精密加工，維持穩定的工藝標準與加工精度。
Hellma 深耕高純度合成晶體研發與制備，適配光學、半導體、輻射探測、安防等領域的嚴苛使用標準。依托熔體控晶相關成熟技術積淀，保障各類晶體制品的品質一致性與工藝穩定性。
Hellma 氟化鈣可應用于微光刻、常規光學、激光技術、輻射探測等場景；鍺、硅材料主要適配紅外光學領域，可用于熱成像相機、夜視設備、光譜分析系統的透鏡及窗口類元器件制作。
鍺材料在 2～14 微米紅外光譜區間具備良好透過性能，適配紅外相關配套應用。硅材料具備良好力學性能與較高折射率，多用于紅外光學系統透鏡、反射鏡構件加工。兩類材料均有多種外形與尺寸規格，可匹配不同工況的定制使用需求。
氟化鈣晶體擁有紫外、可見光、紅外多光譜寬透射區間，同時具備良好環境耐受性能，可適配科研及工業領域各類嚴苛工況使用。
氟化鈣具備低折射率特性，折射率 nd=1.43384，適配高功率激光應用工況。
氟化鈣具備低光譜色散特性，阿貝數 vd=95.23，可有效控制光學系統色差。
氟化鈣對準分子激光具備良好耐受性能，適配 193 nm、248 nm 工作波段，可提升激光元器件使用周期。
氟化鈣擁有深紫外至紅外的寬波段高透過特性，透光區間覆蓋 130 nm 至 8 µm，在紫外、可見光、紅外波段均保持良好透光表現。
氟化鈣半成品最大加工尺寸可達 440 mm，可滿足應用場景的大尺寸用料需求。
CaF2 圓形片
材質：CaF2 193nm 級（LD-A），單晶，晶向 <111>
圓形片規格：直徑 100.0 mm × 50.0 mm（雙平面）
公差：直徑 (± 0.5 mm)；厚度 (± 0.5 mm)
表面光潔度：研磨 (Rq 2 µm)
防護倒角：1.5 mm
0 / ≤ 1 nm/cm（應力雙折射）
Hellma氟化鈣光學晶體材料 CaF2 圓形片
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