原子層沉積技術可實現薄膜材料的原子級精準厚度調控,傳統大型ALD設備體積龐大、成本高昂、操作復雜,難以適配高校教學與基礎科研的高頻次、多樣化試驗需求。桌面式原子層沉積系統PALD設備通過低成本架構優化與全維度安全設計,簡化操作流程,適配高校實驗室的應用場景。
低成本設計依托模塊化精簡架構實現。設備摒棄工業級設備的高真空冗余機組,采用分級真空獲取方案,針對高校常規薄膜試驗需求,優化真空腔體尺寸與泵組配置,在滿足ALD沉積所需真空環境的前提下,降低硬件采購與能耗成本。前驅體供給單元采用通用型模塊化接口,兼容多品類低成本前驅體試劑,減少專用耗材的采購門檻??刂葡到y采用嵌入式集成方案,替代工業級工控機組,精簡軟硬件成本。
多層級安全設計覆蓋試劑、氣路、電氣與操作全維度。前驅體存儲腔采用密閉隔熱防腐結構,適配腐蝕性、易氧化試劑的安全存放;氣路系統配置單向止回、過壓泄壓、尾氣多級處理單元,防止氣體倒灌、管路超壓與有害氣體排放。電氣部分做絕緣隔離與過熱保護,規避腔體高溫與真空環境下的電氣風險;整機設置應急停機聯鎖,觸發壓力、溫度、氣體濃度異常時自動切斷動力與試劑供給。
簡化操作流程適配高??蒲腥藛T使用習慣。設備搭載可視化圖形操作界面,內置常用材料的標準沉積工藝模板,無需手動編寫復雜時序程序即可快速調用。自動完成腔體抽真空、前驅體脈沖調控、吹掃循環、尾氣處理等全流程動作,簡化人工干預步驟。同時配備工藝參數權限分級功能,區分教學演示、基礎試驗、深度開發的操作權限,防范誤操作風險。
桌面式原子層沉積系統PALD設備在控制成本、保障安全的基礎上,保留原子級沉積的核心性能,體積小巧適配常規實驗室臺面布局,可支撐高校材料、電子、化工專業的教學演示與基礎科研試驗,降低原子層沉積技術的高校應用門檻。
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