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Main Product
主營產品
ALD，PVD，CVD，EPI，原子層沉積設備，磁控濺射，電子束蒸發鍍膜，熱蒸發鍍銦設備，等離子體增強原子層沉積，碳化硅外延設備
公司介紹
北京韞茂科技有限公司成立于2018年，由硅谷海歸團隊創立，核心成員擁有超20年薄膜沉積工藝及設備開發產業化經驗，2021年入選高新技術企業，2022年入選廈門專精特新技術企業，是一家以納米級薄膜沉積工藝技術為核心的多領域全棧式薄膜沉積方案供應商，為客戶提供全面的技術解決方案以及先進的納米材料薄膜沉積裝備，針對先進制造國產化的痛點，開發自主設備。
北京韞茂科技定位前沿納米級薄膜沉積方案供應商，圍繞 ALD 原子層沉積（熱式 / 等離子體 / 粉末批次）、PVD 磁控濺射與電子束蒸發、CVD（含 MPCVD 金剛石、流化床粉末 CVD）、Epi 碳化硅外延爐（SICE-Y8 等）構建全棧裝備矩陣，覆蓋 8/12 寸晶圓級到百公斤級粉體量產機型，主攻鋰電池粉體包覆、Mini/Micro LED 與衍射光波導、碳化硅功率器件、集成電路、超導材料等高壁壘場景，其中工業級粉末 ALD/CVD、300mm 量產 ALD/PVD 集群系統、SiC 外延 CVD 均為國產替代進口的代表性突破，客戶橫跨泛半導體、新能源、先進光顯與科研院所。
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