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| 產地類別 | 進口 | 應用領域 | 化工,電子/電池,電氣,綜合 |
|---|
日本full-tech薄膜沉積超小型實驗用CVD裝置
日本full-tech薄膜沉積超小型實驗用CVD裝置
| 參數 | 規格 |
|---|---|
| 型號 | FT-1200CVD |
| 溫度 | 1,200℃ |
| 常用溫度范圍 | 室溫～1,100℃ |
| 使用爐芯管 | 外徑34mm × 800mm 高純度石英管 |
| 均熱區長度 | 150mm |
| 溫度設定精度 | ±1℃以內 |
| 加熱元件 | Kanthal AF（鐵鉻鋁合金，耐高溫抗氧化） |
| 加熱驅動 | 數字晶閘管（相位角控制） |
| 薄膜類型 | 應用示例 |
|---|---|
| 碳納米管（CNT） | 復合材料增強、導電材料 |
| 石墨烯 | 電子器件、傳感器 |
| 氮化硅（Si?N?） | 半導體鈍化層、耐磨涂層 |
| 氧化硅（SiO?） | 絕緣層、光學涂層 |
| 金屬薄膜（鎢、鈦等） | 集成電路互連、阻擋層 |
| 特點 | 優勢 |
|---|---|
| 超小型設計 | 適合實驗室桌面使用，節省空間 |
| 高純度石英管 | 防止污染，保證薄膜純度 |
| 150mm均熱區 | 確保基板溫度均勻，薄膜質量一致 |
| ±1℃精度 | 精確控制反應溫度，提高工藝重復性 |
| 模塊化選配件 | 根據實驗需求靈活配置 |
| 用戶類型 | 應用場景 |
|---|---|
| 大學研究室 | 新材料開發、納米技術研究 |
| 半導體企業研發 | 工藝驗證、新器件開發 |
| 材料科學研究所 | 薄膜材料性能研究 |
| 初創企業 | 小批量樣品制備、技術驗證 |
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