目錄:北京盈思拓科技有限公司>>電鏡樣品制備>>鍍膜儀>> INS-H32MTC高真空碳金一體鍍膜機(jī)
| 參考價(jià) | 面議 |
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更新時(shí)間：2026-04-20 11:24:36瀏覽次數(shù)：350評(píng)價(jià)
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| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,綜合 |
?磁控濺射+熱蒸發(fā)鍍碳雙功能
?滿足各種掃描電鏡導(dǎo)電膜制備及透射電鏡碳膜制備需求
?多功能樣品臺(tái)支持旋轉(zhuǎn)、升降及傾斜功能
?雙功能一鍵切換一鍵鍍膜，全自動(dòng)操作
?雙組件均配備防污染系統(tǒng)有效保護(hù)鍍膜組件
?進(jìn)口分子泵極限真空優(yōu)于5E-3Pa
主要參數(shù) | |||
外形尺寸 | 278(L)×494(H)×467(D) mm | 供電要求 | AC220V/50Hz ＜1000W |
濺射靶材 | Φ50mm，厚度0.1-2mm | 可用靶材 | 所有金屬、導(dǎo)電材料等 |
工作電流 | 1-200mA可調(diào)（步長(zhǎng)：1mA） | 鍍膜時(shí)間 | 1-9999s可調(diào)（步長(zhǎng)：1s） |
蒸發(fā)源 | 高純碳纖維 | 蒸發(fā)模式 | 閃斷模式、脈沖模式 |
真空室 | 170(L)×150(H)×163.5(D) mm 一體加工金屬腔室 | 極限真空 | ≤5×10-3Pa |
真空泵 | 旋片泵（可選干泵）+分子泵 | 主真空泵抽速 | 90L/s |
預(yù)濺射 | 全自動(dòng)預(yù)濺射系統(tǒng)，防止樣品污染及組件污染、提高鍍膜純度 | ||
樣品臺(tái) | Φ80mm，支持旋轉(zhuǎn)、升降及傾斜功能 | ||
其它 | 真空度、工作電流可實(shí)時(shí)曲線顯示 | ||
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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