一、核心技術原理

1. 粒徑檢測：動態光散射 DLS

   660nm 高功率激光照射懸浮納米顆粒，捕捉布朗運動散射光，算法換算流體力學粒徑，測量范圍0.1nm～10μm，覆蓋膠體、納米粉體、高分子乳液、CMP 拋光液。

2. Zeta 電位：電泳光散射激光多普勒法

   實測電滲流補償，高鹽環境、高濃度漿料也能精準測顆粒表面電荷，判斷分散 / 團聚穩定性（半導體研磨液、光刻膠分散性核心指標）。

3. 分子量：靜態光散射 SLS

   單次測試同步輸出高分子、蛋白重均分子量，適配光刻膠樹脂、高分子涂層研發。

二、全系列粒度儀型號分類（按應用場景）

1. ELSZ 系列（實驗室全能旗艦，粒徑 + Zeta 電位 + 分子量三合一）

（1）ELSZneo（全新頂配款，）

• 核心能力：多角度散射、微流變測試、凝膠網絡分析、0~90℃寬溫溫控；3μL 超微量樣品池，高鹽溶液專用平板池大塚電子

• 測量范圍：粒徑 0.6nm～10μm；Zeta 電位 ±1000mV；濃度 0.00001%~40%（原液無需稀釋直測）

• 適配客戶：半導體研發實驗室、CMP 漿料廠、光刻膠材料商、鈣鈦礦涂布液研發；可監測旋涂用光刻膠顆粒團聚風險

• 選配：pH 自動滴定模塊，連續測不同酸堿環境下粒徑 / 電位變化

（2）ELSZ-2000ZS（量產通用款，市場保有量最大）

• 完整三合一：粒徑 + Zeta 電位 + 分子量，基礎溫控 0~60℃，標配 20μL 微量池、流通池可接在線管路

• 細分子型號：

• ELSZ-2000ZS：全功能（粒徑 + 電位 + 分子量 + pH 滴定）

• ELSZ-2000Z：粒徑 + Zeta 電位，無分子量模塊，性價比款

• ELSZ-2000S：僅粒徑 + 分子量，純高分子研發用

• 優勢：日系設備穩定性強，連續 72 小時量產質控無漂移，國內半導體廠實驗室標配

2. DLS-6500 / DLS-8000 純納米粒度分析儀（僅測粒徑，專項材料質控）

無 Zeta 電位功能，專注粒徑分布，分低濃 / 高濃機型，適合產線快速來料檢測：

• 高濃度原液直測能力行業

  最高兼容 40% 固含量漿料，多數競品需稀釋，稀釋會破壞原始團聚狀態，CMP 濃漿測試優勢顯著。

• 半導體潔凈工況適配

  全套特氟龍 / 石英樣品池無金屬析出，配套防爆、無塵實驗室選型方案，可對接旋涂、濕制程產線在線監測。

• 溫控與微量樣品優勢

  僅需 3μL 樣品，0~90℃寬溫區間，適配光刻膠高溫涂布、鈣鈦礦熱敏藥液測試。

• 本土化完整服務

  蘇州全資子公司，現貨樣機、上門安裝調試、原廠校準、中文操作軟件、半導體行業專屬工藝培訓，長三角晶圓廠售后響應 24 小時內到場。

• 多參數一體化

  單臺 ELSZ 系列同時完成粒徑、Zeta 電位、分子量、pH 滴定聯動測試，無需采購多臺設備，節省實驗室空間與預算。