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| 產地類別 | 進口 | 價格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 綜合 |
DNK大日本科研手動批量曝光機接觸式曝光
DNK曝光機的技術特點核心是靈活的光學系統、穩定的曝光控制以及適配多種工藝，特別適合小批量生產和實驗研究。DNK的曝光機主要用于科研和小批量生產，比如液晶、晶圓、膠片這類材料的實驗和加工。 它支持接觸式和接近式曝光，面板尺寸能做到500×500mm，光源用的是超高壓汞燈，功率從500W到3.5kW不等，光學系統可以靈活組合鏡片和透鏡來適配不同需求。
一、光學系統靈活可調
?光源選擇多樣?：支持500W、1kW、2kW、3.5kW超高壓汞燈，能根據材料厚度和精度需求靈活搭配。
?光學組件可定制?：配備多種透鏡和聚光鏡，可優化光束均勻性和聚焦效果，適應不同尺寸的基板。
二、曝光模式與精度控制
?支持接觸/接近曝光?：接觸式（軟/硬）適合高精度成像，接近式減少基板損傷，兼容性廣。
?自動間隙控制?：MA-1200A等機型能穩定控制曝光距離，確保成像一致性。
三、適用場景與工藝
?小批量生產利器?：專為高混合、小批量設計，適合PCB、FPC、LCD、HDI等行業。
?實驗研究友好?：支持多種基板尺寸（500×500mm），滿足科研和試制需求。
四、其他實用設計
?能量均勻性高?：部分型號（如MA-4100）能量均勻性≥90%，提升曝光質量。
?結構穩固耐用?：采用不銹鋼材質，凈重達900KG，確保設備穩定運行。
DNK大日本科研手動批量曝光機接觸式曝光
這是一種手動批量曝光設備，設計緊湊。
主要特征
MA-1200、MA-1300、MA-1400
·這是一種手動批量曝光機，適用于實驗和研究，兼容玻璃、晶圓、薄膜等。也非常適合小批量生產。
·提供接觸式曝光(軟和硬接觸)和近距離接觸。
·兼容為500毫米×500毫米的基材。根據應用和基底尺寸，它配備了組合光學系統，組合了超高壓汞燈(500瓦、1千瓦、2千瓦、3.5千瓦)與各種反光鏡、特殊透鏡和聚光透鏡。
MA-1200A
·手動散裝暴露機適合高混合、小批量生產、實驗和研究，實現穩定的自動間隙控制。
·通過減少占地面積來節省空間。
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