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當前位置：鈴田（上海）科技有限公司>>工業(yè)設備>>DNK大日本科研>> 均勻曝光大日本DNK科研株式會社垂直近距光刻系統(tǒng)
產(chǎn)品型號均勻曝光
品 牌DNK/大日本科研
廠商性質(zhì)代理商
所 在 地上海市
更新時間：2026-06-05 17:59:29瀏覽次數(shù)：235次
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| 產(chǎn)地類別 | 進口 | 應用領域 | 電子/電池 |
|---|
大日本DNK科研株式會社垂直近距光刻系統(tǒng)
DNK曝光機的技術特點核心是靈活的光學系統(tǒng)、穩(wěn)定的曝光控制以及適配多種工藝，特別適合小批量生產(chǎn)和實驗研究。DNK的曝光機主要用于科研和小批量生產(chǎn)，比如液晶、晶圓、膠片這類材料的實驗和加工。 它支持接觸式和接近式曝光，面板尺寸能做到500×500mm，光源用的是超高壓汞燈，功率從500W到3.5kW不等，光學系統(tǒng)可以靈活組合鏡片和透鏡來適配不同需求。
一、光學系統(tǒng)靈活可調(diào)
?光源選擇多樣?：支持500W、1kW、2kW、3.5kW超高壓汞燈，能根據(jù)材料厚度和精度需求靈活搭配。
?光學組件可定制?：配備多種透鏡和聚光鏡，可優(yōu)化光束均勻性和聚焦效果，適應不同尺寸的基板。
二、曝光模式與精度控制
?支持接觸/接近曝光?：接觸式（軟/硬）適合高精度成像，接近式減少基板損傷，兼容性廣。
?自動間隙控制?：MA-1200A等機型能穩(wěn)定控制曝光距離，確保成像一致性。
三、適用場景與工藝
?小批量生產(chǎn)利器?：專為高混合、小批量設計，適合PCB、FPC、LCD、HDI等行業(yè)。
?實驗研究友好?：支持多種基板尺寸（500×500mm），滿足科研和試制需求。
四、其他實用設計
?能量均勻性高?：部分型號（如MA-4100）能量均勻性≥90%，提升曝光質(zhì)量。
?結(jié)構穩(wěn)固耐用?：采用不銹鋼材質(zhì)，凈重達900KG，確保設備穩(wěn)定運行。
大日本DNK科研株式會社垂直近距光刻系統(tǒng)
它是一臺近接曝光機，能夠?qū)崿F(xiàn)大片基材(42英寸，16邊）的均勻曝光。
主要特征
·專有技術
<光學間隙傳感器，支持高精度>實現(xiàn)近距間隙的高速高精度設置，無需接觸。
<高速圖像處理技術>掩膜和掩模與基板的高精度對準。
·穩(wěn)定的運輸
面罩架和板段垂直放置，無需補償面罩、面罩座和板段的偏移。
·基于碳纖維光刻設備等對清潔措施要求更嚴格的成果和設計，我們實施了考慮驅(qū)動單元塵埃生成和氣流的清潔措施。
技術優(yōu)勢
1.大型基底的全表面暴露是可能的。
2.通過在曝光表面垂直配置掩膜和基材，無需補償因自身重量引起的偏移。
3.自研的非接觸光學間隙傳感器允許以高速且高精度地設置掩膜與基板之間的接近間隙。
4.非接觸式邊緣傳感器支持板塊高精度預校準。
5.利用其獨特的高速圖像處理技術，可以高精度地對準掩膜及其與基板之間的位置。
6.通過采用低轉(zhuǎn)角光學系統(tǒng)，提高了轉(zhuǎn)E精度。
7.獨特的鏡面光學系統(tǒng)設計實現(xiàn)了整個表面均勻的平行光照射。
8.主體與光源的分離減少了對主體的熱沖擊。
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