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當前位置：鈴田（上海）科技有限公司>>工業設備>>DNK大日本科研>> 光學燈室MA-5301MLØ300毫米兼容光刻系統大日本科研DNK曝光機
| 產地類別 | 進口 | 應用領域 | 綜合 |
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?300毫米兼容光刻系統大日本科研DNK曝光機
DNK曝光機的技術特點核心是靈活的光學系統、穩定的曝光控制以及適配多種工藝，特別適合小批量生產和實驗研究。DNK的曝光機主要用于科研和小批量生產，比如液晶、晶圓、膠片這類材料的實驗和加工。 它支持接觸式和接近式曝光，面板尺寸能做到500×500mm，光源用的是超高壓汞燈，功率從500W到3.5kW不等，光學系統可以靈活組合鏡片和透鏡來適配不同需求。
一、光學系統靈活可調
?光源選擇多樣?：支持500W、1kW、2kW、3.5kW超高壓汞燈，能根據材料厚度和精度需求靈活搭配。
?光學組件可定制?：配備多種透鏡和聚光鏡，可優化光束均勻性和聚焦效果，適應不同尺寸的基板。
二、曝光模式與精度控制
?支持接觸/接近曝光?：接觸式（軟/硬）適合高精度成像，接近式減少基板損傷，兼容性廣。
?自動間隙控制?：MA-1200A等機型能穩定控制曝光距離，確保成像一致性。
三、適用場景與工藝
?小批量生產利器?：專為高混合、小批量設計，適合PCB、FPC、LCD、HDI等行業。
?實驗研究友好?：支持多種基板尺寸（500×500mm），滿足科研和試制需求。
四、其他實用設計
?能量均勻性高?：部分型號（如MA-4100）能量均勻性≥90%，提升曝光質量。
?結構穩固耐用?：采用不銹鋼材質，凈重達900KG，確保設備穩定運行。
?300毫米兼容光刻系統大日本科研DNK曝光機
主要特征
·配備自研鏡面光學燈室，以實現輻射平面均勻性和高照度
·它采用獨特的同軸對準系統和高速圖像處理技術，實現高精度對準。兼容紅外和背面方法
·獨特的光學間隙傳感器可設置掩膜與基板之間的接近間隙，實現非接觸、快速且準確
·配備了面具更換裝置。自動更換最多20個光罩
·最多3個加載端口
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