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| 產地類別 | 進口 | 應用領域 | 電子/電池 |
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大日本科研(DNK)非接觸式近接FPD用露光裝置
DNK曝光機的技術特點核心是靈活的光學系統、穩定的曝光控制以及適配多種工藝，特別適合小批量生產和實驗研究。DNK的曝光機主要用于科研和小批量生產，比如液晶、晶圓、膠片這類材料的實驗和加工。 它支持接觸式和接近式曝光，面板尺寸能做到500×500mm，光源用的是超高壓汞燈，功率從500W到3.5kW不等，光學系統可以靈活組合鏡片和透鏡來適配不同需求。
一、光學系統靈活可調
?光源選擇多樣?：支持500W、1kW、2kW、3.5kW超高壓汞燈，能根據材料厚度和精度需求靈活搭配。
?光學組件可定制?：配備多種透鏡和聚光鏡，可優化光束均勻性和聚焦效果，適應不同尺寸的基板。
二、曝光模式與精度控制
?支持接觸/接近曝光?：接觸式（軟/硬）適合高精度成像，接近式減少基板損傷，兼容性廣。
?自動間隙控制?：MA-1200A等機型能穩定控制曝光距離，確保成像一致性。
三、適用場景與工藝
?小批量生產利器?：專為高混合、小批量設計，適合PCB、FPC、LCD、HDI等行業。
?實驗研究友好?：支持多種基板尺寸（500×500mm），滿足科研和試制需求。
四、其他實用設計
?能量均勻性高?：部分型號（如MA-4100）能量均勻性≥90%，提升曝光質量。
?結構穩固耐用?：采用不銹鋼材質，凈重達900KG，確保設備穩定運行。
大日本科研(DNK)非接觸式近接FPD用露光裝置
這是一種非接觸式近接暴露裝置，配備邊緣和間隙傳感器。它非常適合觸摸面板、OLED及其他產品的大規模生產。
主要特征
·在標準機器上，自動對準時，調度時間約為20秒(設置為0.5微米以實現自動校準)。不包括暴露時間)。
·直接讀取間隙傳感器和獨特的控制采統允許快速且準確地設置掩膜與基底之間的接近間隙。
·我們準備了一個環境艙，嚴格控制協工單元的溫度。此外，還可以使用舞臺溫度控制系統防止基材因高溫而膨脹和收縮。
·為防止因面罩與玻璃基材溫差引起的膨脹和收縮，可以選擇基底階段溫控和面罩冷卻系統。（可選）
·它可以配備一個可存儲5個面具的面具庫。
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