Acona LE Mini 面向 POU（Point of Use）的在線顆粒計(jì)數(shù)器，針對(duì) CMP slurry（研磨液） 等高價(jià)值工藝液的顆粒風(fēng)險(xiǎn)控制需求，提高過(guò)濾器的利用率，提高過(guò)濾器的使用壽命，減少宕機(jī)時(shí)間。 基于 SPOS單顆粒計(jì)數(shù)原理，提供可用于過(guò)程控制的顆粒趨勢(shì)與閾值統(tǒng)計(jì)結(jié)果。

在 CMP 工藝中，LPC（Large Particle Count，大顆粒數(shù)量） 常用于表征尾端大顆粒風(fēng)險(xiǎn)。 LE Mini 支持在過(guò)濾前/過(guò)濾后/輸送末端等關(guān)鍵節(jié)點(diǎn)進(jìn)行在線監(jiān)測(cè)，為過(guò)濾優(yōu)化、異常預(yù)警與放行決策提供數(shù)據(jù)支撐。

【適用對(duì)象與場(chǎng)景】

• CMP slurry 生產(chǎn)商：出廠質(zhì)量控制、批間一致性、儲(chǔ)存/混配過(guò)程監(jiān)控。

• SDS（Slurry Delivery System）集成商：輸送系統(tǒng)在線質(zhì)量監(jiān)測(cè)、報(bào)警聯(lián)動(dòng)、維護(hù)窗口優(yōu)化。

• 晶圓廠 CMP 產(chǎn)線：POU 端放行前監(jiān)測(cè)、過(guò)濾器更換（filter changeouts）評(píng)估、異常追溯。

【POU 在線顆粒計(jì)數(shù)器部署建議】

POU 的目標(biāo)不是“做一次檢測(cè)"，而是讓數(shù)據(jù)直接服務(wù)于過(guò)程控制。典型部署點(diǎn)位包括：

• 過(guò)濾前：建立來(lái)料與混配后基線，識(shí)別上游波動(dòng)對(duì) LPC 的影響。

• 過(guò)濾后：驗(yàn)證過(guò)濾效果與過(guò)濾器狀態(tài)，形成更換前后的特征曲線。

• SDS 輸送末端（Tool 端）：監(jiān)控輸送鏈路對(duì)尾端大顆粒（LPC）的影響，捕捉末端異常。

圖1 CMP slurry 在儲(chǔ)存-混合-輸送-過(guò)濾-POU 節(jié)點(diǎn)的旁路在線監(jiān)測(cè)示意

【核心技術(shù)與系統(tǒng)設(shè)計(jì)】

1）SPOS 單顆粒計(jì)數(shù)

采用 SPOS（光阻/光消減）逐顆粒計(jì)數(shù)機(jī)制，輸出可用于過(guò)程控制的粒徑分布與閾值統(tǒng)計(jì)結(jié)果， 面向 CMP slurry 的尾端大顆粒風(fēng)險(xiǎn)（LPC）提供可量化的數(shù)據(jù)依據(jù)。

2）在線穩(wěn)定性設(shè)計(jì)

面向在線連續(xù)或定時(shí)采樣使用需求，可按工況選配穩(wěn)流、回壓、脫泡、保護(hù)過(guò)濾與沖洗等組件， 用于降低氣泡/波動(dòng)對(duì)趨勢(shì)數(shù)據(jù)的影響，并提升長(zhǎng)期運(yùn)行的可維護(hù)性與可重復(fù)性。

3）模塊化旁路流路

旁路取樣——檢測(cè)——回流/排放路徑可配置，便于匹配不同現(xiàn)場(chǎng)管路與工藝窗口。對(duì)于高價(jià)值 slurry， 在不改變主流程的前提下完成在線顆粒監(jiān)測(cè)與風(fēng)險(xiǎn)前移。

4）集成與聯(lián)動(dòng)

提供通訊與報(bào)警接口（按配置），用于對(duì)接 SDS 系統(tǒng)或上位機(jī)，實(shí)現(xiàn)在線數(shù)據(jù)歸檔、超限預(yù)警與維護(hù)事件關(guān)聯(lián)分析。

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