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| 產地類別 | 進口 | 價格區間 | 1-5萬 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 綜合 |
日本武藏野Musashino 手動精密研磨拋光機
臺式灰色鈑金主機底座
一體防銹鈑金機身,底部防滑減震腳墊,內置 120W 直流調速驅動電機、散熱風道,正面集中布置全套操作控制開關,機身緊湊輕量化,整機僅 20kg,單人可挪動搬運。
Φ200mm 標準研磨盤工作平臺
主機上方旋轉研磨盤,可選 200mm/203mm 兩種規格盤面,可粘貼砂紙、金剛石磨片、拋光絨布,盤面動平衡校準,高速旋轉無抖動,保證全域研磨均勻。
正面一體化操作控制面板(對應原廠手冊開關布局)
① 轉速數字顯示屏:實時顯示研磨盤當前轉速;
② 運行 / 待機模式切換開關(RUN/STAND-BY);
③ 正反轉切換開關(FWD 正向 / REV 反向);
④ 無級調速旋鈕:連續調節 0~400rpm 轉速;
⑤ 數字定時器模塊:0~99 分 59 秒定時自動停機;
⑥ 電源總開關、漏電保護安全回路。
專用手動研磨夾具總成(原廠選配標配件)
MM-200 專用手研磨夾持治具,可固定 Φ25mm 標準粘貼板,通過熱蠟將試樣粘接于固定板后裝入夾具,人工手持夾具下壓研磨,精準控制研磨去除厚度,配套導向環輔助找平。
循環供水冷卻管路接口(預留拓展)
機身側邊預留冷卻水噴嘴接口,可外接循環供水裝置,研磨過程持續噴淋冷卻試樣,避免樹脂、晶體試樣高溫熱損傷,適配軟質、熱敏材料拋光。
全套原廠標準配套輔件
Φ200mm 研磨底盤、手動研磨夾具、導向定位環、金剛石研磨片、拋光絨布、冷卻噴嘴組件、清潔毛刷、日文操作說明書、出廠平面度精度校準報告
0~400rpm 全域無級調速 + 正反轉雙向旋轉
大區間轉速連續可調,軟質晶體用低速、金屬硬質試樣用高速;可切換正向 / 反向研磨,消除單一方向加工產生的劃痕紋路,提升鏡面均勻度。
手動夾持研磨,精準控制去除量
搭配專用手磨夾具,操作人員可實時把控下壓力,針對超薄半導體芯片、脆性光學晶體實現微量研磨,避免樣品崩邊、過拋損耗,適配高價值試驗小樣。
高精度制樣,可達納米級鏡面粗糙度
標準工藝下試樣平面度優于 λ/10,表面粗糙度 Ra<0.01μm,無邊緣下垂、無表層夾雜剝離,滿足 SEM、EPMA、光學干涉檢測前制樣要求。
數字定時自動停機,標準化試驗流程
內置最長 99 分 59 秒數字計時器,設定研磨時長后自動斷電停機,多批次試樣研磨工藝統一,消除人工計時誤差,試驗重復性更高。
緊湊型臺式輕量化機身,實驗室臺面通用
整機尺寸僅 W330×D430×H200mm,凈重 20kg,無需專用落地地基,放置于金相操作臺、半導體檢測工位均可使用,占地極小。
預留水冷拓展接口,熱敏材料友好加工
側邊可加裝循環冷卻水噴淋系統,研磨過程帶走摩擦熱量,防止樹脂、軟性光學晶體受熱變形、開裂,拓展設備適配材料范圍。
動平衡校準研磨盤,低震動低噪音運行
出廠盤面精密動平衡校正,高速旋轉無明顯抖動,研磨劃痕均勻細膩;內置隔音減震結構,長時間作業噪音低,適配室內實驗室環境。
全套專用治具拓展,兼容多規格試樣
原廠配套多款夾持夾具,適配晶圓、晶體棒、電子元器件、金屬薄片、樹脂包埋金相試樣,可根據樣品尺寸快速更換工裝。
設備型號:MM-200
生產品牌:Musashino ムサシノ電子株式會社(日本武藏野電子)
研磨盤直徑:Φ200mm / Φ203mm 兩種可選
轉速調節范圍:0 ~ 400rpm 無級連續可調
旋轉模式:正向 FWD / 反向 REV 雙向切換
定時功能:數字定時器 00:01 ~ 99:59 自動停機
驅動電機:120W 直流調速電機
輸入電源:AC100V 50/60Hz(可定制 220V 出口版本)
整機外形尺寸:寬 330mm × 深 430mm × 高 200mm(不含冷卻噴嘴)
整機凈重:20kg
加工精度:試樣平面度 λ/10 以下,表面粗糙度 Ra<0.01μm
適配試樣:半導體 IC 截面、光學 LN 晶體、金屬金相、樹脂包埋樣品、陶瓷薄片
半導體研發實驗室:芯片截面拋光、器件斷面制備,用于 SEM/EPMA 成分形貌分析;
光學元件加工廠:LN 光學晶體、光學玻璃端面鏡面研磨,干涉檢測前制樣;
高校材料 / 金相實驗室:金屬、陶瓷材料金相試樣手動精細拋光;
第三方材料檢測機構:高價值稀有小樣微量研磨,避免自動化設備過拋報廢;
精密電子元器件質檢實驗室:PCB、微型器件斷面平整度評價制樣。
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