日本MIKASA 光刻用小型濕式蝕刻裝置
ED-1200 是 MIKASA 專為光刻工藝研發推出的小型桌面濕式噴淋蝕刻設備，主打強耐化學腐蝕、模塊化可拓展兩大核心優勢，適配實驗室研發與小批量光刻試樣加工場景。整機腔體與藥液接觸部件采用耐酸堿 PVC 材質，可兼容各類光刻配套蝕刻液、顯影液、清洗藥液；設備采用擺動噴嘴噴淋結構，藥液均勻覆蓋基板，刻蝕圖形一致性好。
日本MIKASA 光刻用小型濕式蝕刻裝置
優異耐藥耐腐蝕構造，適配各類光刻化學藥液
所有與藥液接觸腔體、管路、噴嘴基座采用 PVC 耐腐蝕材質，可長期浸泡酸性、堿性、含氟類光刻蝕刻藥劑，不會出現溶脹、滲漏、析出雜質污染基板；密封件、輸送管路均標配耐化學氟橡膠 / 特氟龍配件，長期頻繁切換不同蝕刻液、清洗液穩定無腐蝕損耗，大幅降低耗材更換頻次。
模塊化高擴展性，按需選配功能不浪費基礎機身
整機采用標準模塊化預留接口，原生支持三路藥液拓展，可后期加裝藥液溫控單元、循環過濾模組、密閉廢氣收集、自動廢液排放、雙藥液切換閥、加長噴淋噴嘴等配件；從小片基礎蝕刻，升級至多藥液連續工藝、恒溫精密刻蝕，無需更換主機機身，適配不同階段科研、試制需求。
擺動式噴淋蝕刻，基板刻蝕均勻無圖形偏差
搭載伺服驅動擺動噴淋噴嘴，噴淋范圍完整覆蓋 6 英寸以內整片基板，藥液垂直均勻沖刷基底，消除靜態噴淋造成的邊緣刻蝕過快、中心刻蝕不足問題；支持蝕刻、純水漂洗、高速甩干一站式連續自動運行，一套程序完成完整后光刻濕法工藝，減少人工轉運基板帶來的污染風險。
日本MIKASA 光刻用小型濕式蝕刻裝置
內置藥液加壓泵，簡化潔凈車間配套布局
機身集成專用藥液輸送泵，無需額外采購、擺放加壓藥液儲罐，潔凈臺內部占用空間更小；藥液輸送流量、噴淋時長、基板旋轉轉速全部觸控可調，針對硅片、金屬膜、氧化層、玻璃基底可分別存儲專屬工藝程序，調取即用，工藝可復現性強。
真空吸附旋轉基板臺，薄片、小片加工穩定不掉片
中央真空吸盤固定基板，1~6 英寸晶圓、方形玻璃小片均可穩固吸附；伺服電機驅動無級調速旋轉，蝕刻階段低速均勻噴淋，漂洗后高速離心甩干，基板表面無藥液水漬殘留，避免光刻圖形出現水痕缺陷。配備真空檢測聯鎖，未吸附基板設備自動鎖止噴淋，防止藥液飛濺。
觸控可編程自動化操作，降低人工操作誤差
正面液晶觸控面板可視化編輯全套工藝：藥液選擇、噴淋時長、擺動幅度、漂洗次數、甩干轉速、待機等待時間均可自定義，可存儲多組光刻工藝配方；設備運行狀態、藥液余量、故障報警全部屏幕直觀提示，實驗人員也可標準化操作。
全行業光刻工藝適配場景
高校科研實驗室：硅基 MEMS、光電薄膜、二維材料光刻濕法刻蝕試樣；半導體研發：6 英寸以內晶圓小片、氧化層 / 金屬薄膜圖形轉移；光電器件：石英、玻璃掩模版、光學傳感器基底蝕刻；PCB 與精密電子：微型線路小片、柔性基底光刻試制；新材料企業：功能薄膜、壓電陶瓷基底微納圖形加工。
小型臺式密閉機身，適配潔凈工作臺
整機緊湊型桌面尺寸，頂部帶透明防腐翻蓋，開蓋取放基板、關蓋自動啟動聯鎖防護；機身底部預留廢液統一排放口，可對接潔凈室廢液管路；整機低噪音運行，無外置大型輔機，適配百級、千級潔凈臺安裝使用。
化工儀器網